真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見(jiàn)，是必不可少的一項(xiàng)技術(shù)。但是真空鍍膜設(shè)備在使用一段時(shí)間后，表面就會(huì)留下灰塵影響真空鍍膜的整體效果。

那么如何處理真空鍍膜的灰塵呢？

1、設(shè)備使用的源材料要符合必要的純度要求。

2、設(shè)備樣品取出后要注意放置環(huán)境的清潔問(wèn)題。

3、真空鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。

4、真空鍍膜清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。

5、真空鍍膜適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周?chē)h(huán)境的懸浮固體顆粒物。

6、工作人員在操作時(shí)需要戴手套、腳套等，要有專(zhuān)門(mén)的服裝。

由于灰塵對(duì)鍍膜效果會(huì)產(chǎn)生比較大的影響，因此為了避免在真空鍍膜設(shè)備中留下灰塵，應(yīng)該在使用中注意以上幾點(diǎn)來(lái)盡量避免，除此也要注意經(jīng)常清洗，避免灰塵越積越多。

鍍膜技術(shù)在集成電路制造中的應(yīng)用 晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)?？梢?jiàn)氣相沉積術(shù)制備集成電路的核心技術(shù)之一。

真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

關(guān)機(jī)操作順序;

1.關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。

2.待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)高閥、前級(jí)、機(jī)械泵，這期間約需40分鐘。

3.到50以下時(shí)，再關(guān)維持泵。

真空鍍膜機(jī)-適用范圍

1．建筑五金：衛(wèi)浴五金（如水龍頭）．門(mén)鎖．門(mén)拉手．衛(wèi)浴、門(mén)鎖、五金合葉、家具等

2．制表業(yè)：可用于表殼．表帶的鍍膜、水晶制品

3．其它小五金：皮革五金．不銹鋼餐具．眼鏡框、刀具、模具等．

4．大型工件：汽車(chē)輪轂、不銹鋼板．招牌．雕塑等

5、鎖具、拉手、衛(wèi)浴五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具、器血等五金制品鍍超硬裝飾膜。

6、手表、表帶、眼鏡、首飾等裝飾品鍍超耐磨裝飾納米膜和納米膜和納米疊層膜

7、不銹鋼管和板

8、家具、燈具、賓館用具