正性光刻膠
正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛,提供光刻膠的粘附性、化學(xué)抗蝕性,當(dāng)沒有溶解存在時,線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中,感光劑是光敏化合物,常見的是重氮萘醌(DNQ)。在***前,DNQ是一種強烈的溶解,NR9 3000PY光刻膠,降低樹脂的溶解速度。在紫外***后,NR9 3000PY光刻膠報價,DNQ在光刻膠中化學(xué)分解,成為溶解度增強劑,大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。這種***反應(yīng)會在DNQ中產(chǎn)生羧酸,它在顯影液中溶解度很高。正性光刻膠具有很好的對比度,所以生成的圖形具有良好的分辨率。
光刻膠
光刻膠由光引發(fā)劑、樹脂、溶劑等基礎(chǔ)組分組成,又被稱為光致抗蝕劑,這是一種對光非常敏感的化合物。此外,光刻膠中還會添加光增感劑、光致產(chǎn)酸劑等成分來達(dá)到提高光引發(fā)效率、優(yōu)化線路圖形精密度的目的。在受到紫外光***后,NR9 3000PY光刻膠哪里有,它在顯影液中的溶解度會發(fā)生變化。
分類
根據(jù)光刻膠按照如何響應(yīng)紫外光的特性可以分為兩類。
正膠
***前對顯影液不可溶,而***后變成了可溶的,能得到與掩模板遮光區(qū)相同的圖形。
優(yōu)點:分辨率高、對比度好。
缺點:粘附性差、抗刻蝕能力差、高成本。
靈敏度:***區(qū)域光刻膠完全溶解時所需的能量
負(fù)膠egative
Photo Resist)
與正膠反之。
優(yōu)點: 良好的粘附能力和抗刻蝕能力、感光速度快。
缺點: 顯影時發(fā)生變形和膨脹,導(dǎo)致其分辨率。
靈敏度:保留***區(qū)域光刻膠原始厚度的50%所需的能量。
芯片光刻的流程詳解(一)
在集成電路的制造過程中,有一個重要的環(huán)節(jié)——光刻,正因為有了它,NR9 3000PY光刻膠廠家,我們才能在微小的芯片上實現(xiàn)功能。現(xiàn)代刻劃技術(shù)可以追溯到190年以前,1822年法國人Nicephore niepce在各種材料光照實驗以后,開始試圖復(fù)一種刻蝕在油紙上的印痕(圖案),他將油紙放在一塊玻璃片上,玻片上涂有溶解在植物油中的瀝青。經(jīng)過2、3小時的日曬,透光部分的瀝青明顯變硬,而不透光部分瀝青依然軟并可被松香和植物油的混合液洗掉。通過用強酸刻蝕玻璃板,Niepce在1827年制作了一個d’Amboise主教的雕板相的產(chǎn)品。
Niepce的發(fā)明100多年后,即第二次***期間才應(yīng)用于制作印刷電路板,即在塑料板上制作銅線路。到1961年光刻法被用于在Si上制作大量的微小晶體管,當(dāng)時分辨率5um,如今除可見光光刻之外,更出現(xiàn)了X-ray和荷電粒子刻劃等更高分辨率方法。
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