1﹨鍍膜技能在集成電路制造中的運(yùn)用
晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線等多是選用CVD技能、PVCD技能、真空蒸騰金屬技能、磁控濺射技能和射頻濺射技能?？梢?jiàn)氣相堆積術(shù)制備集成電路的核心技能之一。
2﹨鍍膜技能在裝飾品方面的運(yùn)用
跟著經(jīng)濟(jì)的開(kāi)展和生活水平的進(jìn)步，大家喜愛(ài)將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室表里裝飾件、五金箱包、手機(jī)殼、手機(jī)視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五光十色。
真空鍍膜
光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與***
光學(xué)鍍膜機(jī)主要由真空鍍膜機(jī)室、真空抽氣機(jī)組限及電柜（控制電柜、電子槍電樞）組成，東莞鍍膜廠，其廣泛應(yīng)用于微電子、光學(xué)成膜、民用裝飾、表面工程等領(lǐng)域。
光學(xué)鍍膜設(shè)備在防止油污染和縮短工作周期等方面具有***的性能。
光學(xué)鍍膜設(shè)備工作原理是在高真空狀態(tài)下、利用電子束對(duì)金屬或非金屬材料加熱到適當(dāng)?shù)臏囟?，材料受熱后蒸發(fā)成蒸汽分子。它的平均自由程比蒸發(fā)源至被蒸發(fā)基片距離大，蒸發(fā)出來(lái)的蒸汽分子向四處直射，鍍膜廠家，碰到基片就沉積在基片表面形成臘層。
光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與***主要包換電子槍安裝與維護(hù)、光路的檢修與維護(hù)、設(shè)備的清洗與***。
真空電鍍與水電鍍相比有哪些優(yōu)缺點(diǎn)
真空電鍍可分為一般真空電鍍、UV真空電鍍、真空電鍍特殊.工藝有蒸鍍、濺鍍、槍色等。真空離子鍍，又稱(chēng)真空鍍膜.真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種比較流行的做法，做出來(lái)的產(chǎn)品金屬感強(qiáng)，亮度高．而相對(duì)其他的鍍膜法來(lái)說(shuō)，成本較低，對(duì)環(huán)境的污染小，現(xiàn)在為各行業(yè)廣泛采用。
水電鍍因工藝較簡(jiǎn)單，從設(shè)備到環(huán)境得要求均沒(méi)有真空離子鍍苛刻，從而被廣泛應(yīng)用.但水電鍍有個(gè)弱點(diǎn)，只能鍍ABS料和ABS PC料（此料鍍的效果也不是很理想）。而ABS料耐溫只有80℃，這使得它的應(yīng)用范圍被限制了。而真空電鍍可達(dá)200℃左右，這對(duì)使用在高溫的部件就可以進(jìn)行電鍍處理了。像風(fēng)嘴、風(fēng)嘴環(huán)使用PC料，這些部件均要求耐130℃的高溫。一般要求耐高溫的部件，做真空電鍍都要在***后噴一層UV油，這樣使得產(chǎn)品表面即有光澤、有耐高溫、同時(shí)又保證附著力。 兩種工藝的優(yōu)缺點(diǎn)：
A、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價(jià)鉻”，這是非環(huán)保材料.對(duì)于“六價(jià)鉻”。如此嚴(yán)格的要求，國(guó)內(nèi)一些廠家已開(kāi)始嘗試使用“三價(jià)鉻”來(lái)替代“六價(jià)鉻”；而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求。
簡(jiǎn)單一點(diǎn)，就是在真空狀態(tài)下將需要涂覆在產(chǎn)品表面的膜層材料通過(guò)等離子體離化后沉積在工件表面的表面處理技術(shù)。它有真空蒸發(fā)鍍，濺射鍍，離子鍍等，獲得這些沉積方法的途徑有多種：電加熱、離子束、電子束、直流濺射、磁控濺射、中頻濺射、射頻建設(shè)、脈沖濺射、微波增強(qiáng)等離子體、多弧等等很多種方法，可以根據(jù)的需求和經(jīng)濟(jì)技術(shù)條件考慮選用的涂層設(shè)備
B、簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，真空電鍍不過(guò)UV油，其附著力很差，無(wú)法過(guò)百格TEST，而水電鍍的明顯好于真空電鍍！因此，為保證真空電鍍的附著力，鍍膜，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理，成本當(dāng)然高些?！ ?/p>
C、水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對(duì)于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門(mén)的七彩色就無(wú)能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問(wèn)題。
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