HKCVD-1700系統(tǒng)由高溫管式爐，高真空擴(kuò)散泵/分子泵系統(tǒng)，多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)，自動(dòng)壓強(qiáng)控制系統(tǒng)等組成?？蓪?shí)現(xiàn)本底真空達(dá)0.001—0.0001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。
主要功能和特點(diǎn)：
1、真空系統(tǒng)可根據(jù)使用要求選擇我部擴(kuò)散泵機(jī)組或分子泵機(jī)組；
2、在高溫試驗(yàn)過程中，可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；
3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測(cè)量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全可靠。
4、采用水冷KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用世界頂級(jí)Swagelok卡套連接，不漏氣；
5、超溫、過壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，保證設(shè)備及實(shí)驗(yàn)的安全性。
主要用途和適用范圍：
高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗(yàn)，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長等場(chǎng)所。
技術(shù)參數(shù)：
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HKCVD-1700 |
本產(chǎn)品通過歐盟CE認(rèn)證 |
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控溫方式 |
采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，并可編制50段升降溫程序。 |
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加熱元件 |
進(jìn)口1700型優(yōu)質(zhì)硅鉬棒 |
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工作電源 |
AC220V 50HZ/60HZ |
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額定功率 |
≤6KW |
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爐管尺寸 |
Φ60/80/100*/1000mm |
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工作溫度 |
≤1600℃ |
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最高溫度 |
1650℃ |
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恒溫精度 |
±1℃ |
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升溫速度 |
≤15℃/min |
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測(cè)溫元件 |
B型熱電偶 |
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密封方式 |
不銹鋼水冷KF法蘭擠壓密封 |
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ZK-F |
ZK-K |
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真空范圍 |
0.1-0.001Pa |
0.1-0.01Pa |
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極限真空 |
5.0*10^-5Pa |
5.0*10^-4Pa |
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產(chǎn)品配置 |
雙級(jí)旋片真空泵+分子泵 |
雙級(jí)旋片真空泵+擴(kuò)散泵 |
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冷卻方式 |
風(fēng)冷 |
水冷 |
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抽 速 |
110L/S |
100L/S |
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測(cè)量方式 |
復(fù)合真空計(jì) |
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真空規(guī)管 |
電阻規(guī)+電離規(guī) |
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HKCVD-1700-I |
測(cè)量范圍 |
1*10^5～1*10^-1 Pa |
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穩(wěn)壓(真空)范圍 |
1*10^3～1*10Pa |
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壓力(穩(wěn)定精度） |
±3% |
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控制范圍 |
2.5*10^3～5*10^-1 Pa |
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控制精度 |
± 1% |
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HKCVD-1700-Ⅲ |
控制方式 |
D07-7K質(zhì)量流量計(jì),D08流量顯示儀 |
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流量規(guī)格（可訂制） |
0－500SCCM /0－1SLM, |
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線 性 |
±1%F.S. |
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準(zhǔn)確度 |
±1%F.S. |
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重復(fù)精度 |
±0.2%F.S. |
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響應(yīng)時(shí)間 |
≤2sec |
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耐 壓 |
3MPa |
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氣路通道 |
3通道（根據(jù)客戶需求） |
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針 閥 |
316不銹鋼 |
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管 道 |
Φ6mm不銹鋼管 |
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接 口 |
SwagelokΦ6mm |
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