HKCVD-1200由開(kāi)啟式單（雙）溫區(qū)管式爐、高真空擴(kuò)散泵系統(tǒng)、壓強(qiáng)控制儀及多通道高精度數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)組成?？蓪?shí)現(xiàn)真空達(dá)0.001Pa混合氣體化學(xué)氣相沉積和擴(kuò)散試驗(yàn)。
主要功能和特點(diǎn)：
1、高真空系統(tǒng)由前級(jí)雙級(jí)旋片真空泵和后級(jí)擴(kuò)散泵組成，***高真空可達(dá)0.001Pa；
2、可配合壓強(qiáng)控制儀控制氣體壓力實(shí)現(xiàn)負(fù)壓的精準(zhǔn)控制；
3、數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)是由多路質(zhì)量流量計(jì)，流量顯示儀等組成，實(shí)現(xiàn)氣體的流量的精密測(cè)量和控制；每條氣體管路均配備高壓逆止閥，保證系統(tǒng)的安全性和連續(xù)均勻性。
4、采用KF快速法蘭密封，裝卸方便快捷；管路采用***Swagelok卡套連接，不漏氣；
5、超溫、過(guò)壓時(shí)，自動(dòng)切斷加熱電源及流量計(jì)進(jìn)氣，使用安全可靠。
主要用途和適用范圍：
高校、科研院所、工礦企業(yè)做高溫氣氛燒結(jié)、氣氛還原、CVD/CVI實(shí)驗(yàn)，特別適用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備、納米線生長(zhǎng)、電池材料干燥燒結(jié)等場(chǎng)所。
技術(shù)參數(shù)：
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HKCVD-1200 |
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控溫方式 |
采用人工智能調(diào)節(jié)技術(shù)，具有PID調(diào)節(jié)、自整定功能，并可編制30段升降溫程序。 |
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加熱元件 |
0Cr27Al7Mo2 |
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工作電源 |
AC220V 50HZ/60HZ |
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額定功率 |
4KW |
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爐管尺寸 |
Φ60/Φ80/Φ100*1000mm |
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工作溫度 |
≤1150℃ |
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***高溫度 |
1200℃ |
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恒溫精度 |
&plu***n;1℃ |
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加熱區(qū)長(zhǎng)度 |
440mm或220mm/220mm |
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升溫速度 |
≤20℃/min |
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密封方式 |
不銹鋼快速法蘭擠壓密封 |
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HKCVD-1200-K |
真空范圍 |
0.1-0.01Pa |
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極限真空 |
4.0*10^-4Pa |
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產(chǎn)品配置 |
雙級(jí)旋片真空泵+擴(kuò)散泵 |
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測(cè)量方式 |
復(fù)合真空計(jì) |
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真空規(guī)管 |
電阻規(guī)+電離規(guī) |
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冷卻方式 |
水冷 |
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工作電源 |
AC380V 50/60HZ |
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抽 速 |
100L/S |
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HKCVD-1200-I |
測(cè)量范圍 |
1*10^5～1*10^-1 Pa |
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穩(wěn)壓(真空)范圍 |
1*10^3～1*10Pa |
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壓力(真空)穩(wěn)定精度 |
&plu***n;3% |
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控制范圍 |
2.5*10^3～5*10^-1 Pa |
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控制精度 |
&plu***n;1% |
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HKCVD-1200-Ⅲ |
控制方式 |
D07-7K質(zhì)量流量計(jì),D08流量顯示儀 |
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流量規(guī)格 |
0－500SCCM /0－1SLM（可根據(jù)客戶需要配置） |
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線 性 |
&plu***n;1%F.S |
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準(zhǔn)確度 |
&plu***n;1%F.S |
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重復(fù)精度 |
&plu***n;0.2%F.S. |
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響應(yīng)時(shí)間 |
≤2sec |
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耐 壓 |
3MPa |
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氣路通道 |
3通道（根據(jù)客戶需求） |
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針 閥 |
316不銹鋼 |
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管 道 |
Φ6mm不銹鋼管 |
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接 口 |
SwagelokΦ6mm |
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