在描繪時，選用步進電機機描繪(stepper)，在其中有電子束和激光器之分，粒子束立即在有涂鉻層的4-9“玻璃板上描繪，邊沿起始點5mm，與電子束對比，其弧型更真實，圖形界限與間隔更小。光掩膜有掩膜正版(reticlemask，也是稱之為正中間掩膜，reticle做為企業(yè)譯成光纖傳感器)，用步進電機機反復將占比變小到mastermaks上，運用到具體曝i光中的為工作中掩膜(workingmask)，工作中掩膜由mastermask復i制回來。

在半導體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術(shù)，用于這些步驟的圖形“底片”稱為掩膜（也稱作“掩?！保?，其作用是：在硅片上選定的區(qū)域中對一個不透明的圖形模板遮蓋，繼而下面的腐蝕或擴散將只影響選定的區(qū)域以外的區(qū)域。

選定的圖像、圖形或?qū)ο笥糜谧钃跻烟幚淼膱D像(全部或部分)，以控制圖像處理區(qū)域或過程。用于覆蓋的特定圖像或?qū)ο蠓Q為遮罩或模板。在光學圖像處理中，掩模可以是薄膜、濾光器等。在數(shù)字圖像處理中，掩模是二維矩陣陣列，有時也使用多值圖像。

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，掩膜板，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務！

光罩（英文：Reticle， Mask），在制作IC的過程中，利用光蝕刻技術(shù)，在半導體上形成圖型，為將圖型復i制於晶圓上，必須透過光罩作用的原理，類似于沖洗照片時，利用底片將影像復i制至相片上。