氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。
第二段b(曲線bc段):多孔層形成。隨著氧化膜的生成,電解液對膜的溶解作用也就開始了。由于生成的氧化膜并不均勻,在膜很薄的地方將首先被溶解出空穴來,電解液就可以通過這些空穴到達鋁的新鮮表面,電化學反應得以繼續(xù)進行,電阻減小,電壓隨之下降(下降幅度為至高值的10~15%),膜上出現(xiàn)多孔層。
影響陽極氧化氧化膜質量的因素主要有:
氧化時間:氧化時間的選擇,取決于電解液濃度,溫度,陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當電流密度恒定時,膜的生長速度與氧化時間成正比;但當膜生長到一定厚度時,由于膜電阻升高,影響導電能力,鋁氧化生產(chǎn)廠家,而且由于溫升,鋁氧化價格,膜的溶解速度增大,所以膜的生長速度會逐漸降低,到后面不再增加。
工藝鋁及其鋁合金陽極氧化的方法很多,鋁氧化加工,常用的有***陽極氧化、鉻酸陽極氧化、草酸陽極氧化、硬質陽極氧化和瓷質陽極氧化。***在稀***電解液中通以直流和交流電對鋁及其合金進行陽極氧化處理,可獲得5~20微米厚,徐州鋁氧化,吸附性較好的無色透明氧化膜。***陽極氧化工藝簡單,溶液穩(wěn)定,操作方便,允許雜質含量范圍較寬,電能消耗少,成本低,且?guī)缀蹩梢赃m用于鋁及各種鋁合金的加工,所以在國內已得到了廣泛的應用。
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