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結(jié)果表明:該質(zhì)量濃度的銨根對測定無影響,部分待測元素靈敏譜線受到釩基較嚴(yán)重的光譜重疊或旁峰干擾;高質(zhì)量濃度釩的基體效應(yīng)、連續(xù)背景疊加等影響因素導(dǎo)致鋁、鐵、硅、磷、鉛、、鉻、鈣的譜線強度增加,對其產(chǎn)生正干擾,同時高質(zhì)量濃度釩的基體效應(yīng)也導(dǎo)致鉀、鈉的譜線強度降低,對其產(chǎn)生負干擾。為此實驗方法采用基體匹配和同步背景校正相結(jié)合的校正措施消除了高釩基體影響,同時試驗優(yōu)選了未受光譜干擾的各待測元素分析譜線及其背景校正和檢測區(qū)域。結(jié)果表明,背景等效濃度為-0.000 3%(Na)~0.000 4%(Ca);鋁、鐵、硅、磷、鉛、、鉻、鈣在0.001%~0.60%(質(zhì)量分數(shù))范圍內(nèi),鉀、鈉在0.005%~0.60%(質(zhì)量分數(shù))范圍內(nèi),其質(zhì)量分數(shù)與其對應(yīng)的發(fā)射強度呈線性,各元素校準(zhǔn)曲線的相關(guān)系數(shù)均不小于0.999;方法中各元素檢出限為0.000 1%~0.000 6%。
研磨時間對BiVO_(4)試樣光催化活性的影響
以偏釩酸銨(NH_(4)VO_(3))和五水合鉍(Bi(NO_(3))_(3)·5H_(2)O)為原料,偏釩酸銨,采用固相法制備了釩酸鉍(BiVO_(4))光催化劑。采用X射線衍射(XRD)、紫外可見漫反射光譜(UV-Vis DRS)、掃描電子顯微鏡(SEM)和BET比表面積測試對試樣進行表征。以亞藍(MB)的光催化降解反應(yīng)為探針,考察了研磨時間對BiVO_(4)試樣光催化活性的影響。結(jié)果表明:延長研磨時間,有利于提高BiVO_(4)試樣的結(jié)晶度,提高光吸收能力,從而增強光催化活性,偏釩酸銨生產(chǎn)廠家,但過長的研磨時間會導(dǎo)致BiVO_(4)的比表面積下降;研磨時間為10 min時,BiVO_(4)試樣具有佳的光催化活性;當(dāng)反應(yīng)條件為催化劑濃度1 g/L,室溫下光照反應(yīng)30 min時,生產(chǎn)偏釩酸銨,MB的降解率達到82.3%。
以鉍為鉍源,偏釩酸銨為釩源,調(diào)節(jié)pH值,采用水熱法合成光催化劑BiVO_(4),采用X-射線衍射儀(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)、透射電子顯微鏡(TEM)對產(chǎn)物進行結(jié)構(gòu)和形貌分析.在可見光條件下,偏釩酸銨廠家,考察BiVO_(4)對橙(MO)的光催化性能.結(jié)果表明,在pH值為6.0的條件下合成的BiVO_(4)具有較優(yōu)的光催化性能,可見光條件下催化反應(yīng)5 h后,MO的降解率達到98.4%,并且在循環(huán)反應(yīng)5次后對MO的降解率仍在95%以上.因BiVO_(4)良好的光催化活性和穩(wěn)定性,在廢水處理領(lǐng)域有非常廣闊的應(yīng)用前景.
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