納米氧化硅拋光液是一種均勻穩(wěn)定的納米氧化硅分散漿料，是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。納米氧化硅拋光液具有優(yōu)異的分散性和穩(wěn)定性，能夠長期儲存穩(wěn)定無沉淀。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工。

產(chǎn)品特點

1、高拋光速率，利用大粒徑的膠體二氧化硅粒子達到高速拋光的目的（可以生產(chǎn)150 nm）

2、粒度可控，根據(jù)不同需要，可生產(chǎn)不同粒度的產(chǎn)品（10-150 nm）

3、高純度（Cu含量小于50 ppb），有效減小對電子類產(chǎn)品的沾污

4、高平坦度加工，本品拋光利用SiO2的膠體粒子，不會對加工件造成物理損傷，達到高平坦化加工

應用領域

1、 光通訊領域，配合公司專門為光纖連接器開發(fā)的拋光產(chǎn)品，能達到超精細拋光效果，拋光后連接器端面沒有劃傷和缺陷，3D指標和反射衰減指標達到國際標準。

2、 硬盤基片的拋光，SiO2磨料呈球形，具有粒度均勻、分散性好、平坦化效率高等優(yōu)點。

3、 硅晶圓、藍寶石等半導體及襯底材料的粗拋和精拋，具有拋光速率高，拋光后易清洗，表面粗糙度低，能夠得到總厚偏差（TTV）***的質量表面。

4、其他領域的應用，如不銹鋼、光學玻璃等領域，拋光后能達到良好的拋光效果