910高填平清亮酸性光亮鍍銅工藝
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特點(diǎn)
- 出光速度快,鍍層具有優(yōu)良的光澤度及填平度,可達(dá)到全光亮鏡面效果。
- 沉積速度快,在4.5 A/dm2的電流密度下,可得到1µm/min 的厚銅層。
- 鍍層內(nèi)應(yīng)力低,延展性好。
- 鍍液穩(wěn)定易控制,雜質(zhì)容忍度高,適用于各種類型基體金屬(如:鐵、銅、鋅合金等)及塑料件的電鍍。
- 鍍液組成及操作條件
原料及操作條件 |
工藝范圍 |
標(biāo)準(zhǔn)工藝 |
***銅(CuSO4 . 5H2O) |
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