鎂合金復合離子去毛刺拋光設備

是一種全新的金屬表面處理工藝綜合了電漿拋光、電化學拋光及ECD電化學去毛刺原理，且配套了我司自主研發(fā)的***節(jié)能型電源——僅在工件表面的分子層與電離子反應，分子中原子一般間距為0.1-0.3納米，處理深度為0.3-1.5納米。拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內，因此電離子納米拋光處理可以化學活化工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學物質。本公司進一步研發(fā)出納米拋光液配方，在拋光液成本上進一步降低，使拋光效果進一步優(yōu)化。

此方法是將待拋光工件浸入加熱的中性鹽水溶液中，并對其施加正極性電壓，該電解液無公害且廉價，所施加的電壓為200-400V，工件可以是不銹鋼、工具鋼、低碳鋼、銅、金和鋁等導電材料。在適當的工作條件下，工件表面會出現穩(wěn)定的蒸氣氣體層，該氣體層會把被處理表面與電解質水溶液隔開，從而導致表面與電解液蒸氣之間產生強烈的電離子體化學和電化學反應，使被處理表面產生陰極氧化，同時又使陰極氧化層受到化學侵蝕，在氧化速度與侵蝕速度相等時出現拋光效果，其表現為光潔度上升及反射率提高。當氧化層***薄且又足以抵御侵蝕作用時，其反射率出現***高值。微觀不平處的氧化層***薄，因此侵蝕總是發(fā)生在凸起部位.此外,被拋光表面被施加足夠高的電壓后,它和氣體層、蒸氣、電解液之間會產生很高的電場強度，這種強度也在微觀不平處得到強化。這些作用的綜合效果，使表面微觀凸起部位被削平，達到拋光效果。鎂合金復合離子去毛刺拋光設備