本公司供應(yīng)真空烤盤爐，本設(shè)備為一種新型的真空烤盤爐，爐內(nèi)抽真空，被處理工件放置在爐膛內(nèi)，采用清洗氣體加熱反應(yīng)方式進(jìn)行干式清洗（清洗氣體：N2，H2)。 主要用于有效清除MOCVD承受器（SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化***和氮化鋁等，可達(dá)到有效清潔處理，提到制品質(zhì)量的目的。 產(chǎn)品優(yōu)勢(shì) 1、價(jià)格優(yōu)勢(shì) 2、***的清洗雜質(zhì)能力，大大延長(zhǎng)了承受器的使用壽命。 3、獨(dú)特的系統(tǒng)設(shè)計(jì)，全自動(dòng)化的操作方法。 4、提供快速反應(yīng)的優(yōu)勢(shì)***并有大量LED客戶安裝的豐富經(jīng)驗(yàn) 如有需要，請(qǐng)聯(lián)系！