關(guān)鍵詞：銅靶材|銅靶|銅濺射靶材|高純銅靶材|銅靶材價格

啟睿新材料可提供純度99.9%~99.9999%的各種純度及要求的銅靶材，其中氧含量***低可以<1ppm，主要用于顯示屏及觸摸屏配線及其保護(hù)膜，太陽能光吸收層、半導(dǎo)體配線等行業(yè)。除了滿足客戶平面靶（***大G8.5代）的需求，我們還可以生產(chǎn)銅的旋轉(zhuǎn)靶，主要用于觸摸屏行業(yè)。高純銅靶的晶粒很難打碎，我們只有通過超大變形量加工，控制欒晶的生長，以取得細(xì)小均勻的微觀***，從而可確保濺射鍍膜時能獲得較低侵蝕速率，并且降低濺射過程中顆粒的形成敏感度。銅濺射靶中的雜質(zhì)會降低材料的導(dǎo)電率，在半導(dǎo)體膜層生產(chǎn)中雜質(zhì)元素是影響良率的主要因素。以鈦、磷、鈣、鐵、鉻和硒等形式存在的雜質(zhì)尤為關(guān)鍵，而這些金屬在我們的銅靶中含量很少，其雜質(zhì)含量遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于客戶要求標(biāo)準(zhǔn)值。

我們可供應(yīng)實(shí)驗(yàn)室用及工業(yè)用的平面靶、旋轉(zhuǎn)靶等，歡迎聯(lián)系咨詢。

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