河北宇昊納米材料有限公司簡介
河北宇昊納米材料有限公司成立于2010年,是一家***從事超精密拋光材料的研究開發(fā)、生產(chǎn)銷售的高新公司。
我公司采用臺灣平坦化技術(shù)協(xié)會技術(shù),擁有強大的研發(fā)團(tuán)隊;同時根據(jù)***新GB 50073-2001標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行了萬級潔凈廠房設(shè)計和建造;公司擁有管理水平***的生產(chǎn)管理團(tuán)隊和服務(wù)水平***的銷售***團(tuán)隊。
我公司秉承研發(fā)***、生產(chǎn)***、服務(wù)***的企業(yè)宗旨,致力成為國內(nèi)微電子、光電子、藍(lán)寶石行業(yè)的合作伙伴;致力于用新技術(shù)實現(xiàn)對國外同類產(chǎn)品質(zhì)量的超越,為您的企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)優(yōu)價的產(chǎn)品,以達(dá)到企業(yè)的共同發(fā)展與共贏。
為了我公司長久的發(fā)展,也為了您有一個穩(wěn)定的供應(yīng)商,我公司已將ISO14001的環(huán)境體系認(rèn)證,ISO9000質(zhì)量管理體系認(rèn)證列入了公司計劃。
我公司的主要產(chǎn)品有:硅材料拋光液系列、藍(lán)寶石拋光液系列、計算機(jī)硬盤基片拋光液、石英玻璃拋光液、微晶玻璃拋光液、硅材料清洗劑、藍(lán)寶石清洗劑等。同時還可以根據(jù)客戶的標(biāo)準(zhǔn)開發(fā)特異型拋光液產(chǎn)品。
我們認(rèn)為優(yōu)良的產(chǎn)品取決于生產(chǎn)管控,為保證產(chǎn)品質(zhì)量,我們建立了嚴(yán)格的質(zhì)量管控體系,從原料采購開始進(jìn)行全程管控,生產(chǎn)過程每道工序互為客戶,不合格品***會流到下工序,從而保證了每批產(chǎn)品的品質(zhì);同時我們建立了嚴(yán)格的抽檢程序,抽樣方法高于***GB2828抽樣標(biāo)準(zhǔn),試驗室配備了***的技術(shù)人員和檢驗設(shè)備,嚴(yán)把產(chǎn)品出廠關(guān)。
我們認(rèn)為客戶永遠(yuǎn)是對的,我們的技術(shù)和***人員很高興為您解決產(chǎn)品技術(shù)方面的問題, 感謝您的支持與惠顧!
YH/02型藍(lán)寶石襯底材料拋光液
技術(shù)領(lǐng)域
藍(lán)寶石襯底材料的拋光液。
背景技術(shù)
藍(lán)寶石單晶(Sapphire),又稱白寶石,分子式為Al2O3,透明,與天然寶石具有相同的光學(xué)特性和力學(xué)性能,有著很好的熱特性,***的電氣特性和介電特性,并且防化學(xué)腐蝕,對紅外線透過率高,有很好的耐磨性,硬度僅次于金剛石,達(dá)莫氏9級,在高溫下仍具有較好的穩(wěn)定性,熔點為2030℃,所以被廣泛應(yīng)用于工業(yè)、國防、科研等領(lǐng)域,越來越多地用作固體激光、紅外窗口、半導(dǎo)體芯片的襯底片、精密耐磨軸承等高技術(shù)領(lǐng)域中零件的制造材料。
作為繼Si、GaAs之后的第三代半導(dǎo)體材料的GaN,其在器件上的應(yīng)用被視為20世紀(jì)90年代后半導(dǎo)體***重大的事件,它使半導(dǎo)體發(fā)光二極管與激光器上了一個新臺階,由于GaN很難制備體材料,必須在其它襯底材料上生長薄膜,作為GaN的襯底材料有多種,包括藍(lán)寶石、碳化硅、硅、氧化鎂、氧化鋅等,其中藍(lán)寶石是***主要的襯底材料,目前已能在藍(lán)寶石上外延出高質(zhì)量的GaN材料,并已研制出GaN基藍(lán)色發(fā)光二極管及激光二極管。
藍(lán)寶石由于其硬度高且脆性大,機(jī)械加工困難。而藍(lán)寶石襯底是目前***為普遍的一種襯底材料,作為襯底材料對晶體表面提出了超光滑的要求。研究表明器件的質(zhì)量很大程度上依賴于襯底的表面加工。尤其對用于GaN生長的藍(lán)寶石襯底片精密加工技術(shù)更加復(fù)雜,是目前***研究的難題。隨著光電技術(shù)的飛速發(fā)展,光電產(chǎn)品對藍(lán)寶石襯底材料需求量的日益增加,為了滿足藍(lán)寶石光學(xué)器件發(fā)展的需求,藍(lán)寶石化學(xué)機(jī)械拋光(Chemical-Mechanical Polishing,簡稱CMP)的機(jī)理及技術(shù)和相關(guān)CMP漿料的選擇成為急待解決的重要問題.
目前國內(nèi)在藍(lán)寶石批量生產(chǎn)的技術(shù)還很不成熟,在生產(chǎn)藍(lán)寶石襯底片的時候產(chǎn)生裂痕和崩邊現(xiàn)象的襯底片占總數(shù)比例比較高,占總數(shù)的5%~8%,在之后的研磨和拋光工序中所能夠達(dá)到的拋光和研磨速率也很低,并且很多經(jīng)過加工之后的藍(lán)寶石片由于表面劃痕較重,有20%左右的寶石片表面有粗深痕跡,需要重新研磨拋光,從而導(dǎo)致返工,而部分經(jīng)過返工的藍(lán)寶石片由于研磨拋光過度,導(dǎo)致厚度過薄而報廢,這樣就大大提高了藍(lán)寶石襯底片加工的成本。
產(chǎn)品內(nèi)容
本產(chǎn)品是解決公知藍(lán)寶石襯底材料拋光液在拋光過程中存在的襯底片表面去除速率低、粗糙度高、易劃傷、易蹋邊等問題,而公開一種化學(xué)作用強、去除速率快、表面粗糙度低、無劃傷,且成本低的藍(lán)寶石襯底材料拋光液。
本產(chǎn)品中各組分的作用分別為:
納米硅溶膠作為拋光液磨料,其粒徑小(20~30nm)、濃度高(>35%)、硬度小(對基片損傷度?。?、分散度好,能夠達(dá)到高速率高平整低損傷拋光、污染小,解決了Al2O3磨料硬度大易劃傷、易沉淀等諸多弊端;
胺堿作為拋光液pH調(diào)節(jié)劑,可起到緩沖劑的作用,又可生成大分子產(chǎn)物且溶于水,使反應(yīng)產(chǎn)物在小的機(jī)械作用下即可脫離加工表面,同時還能起到緩蝕、絡(luò)合等作用,同時具有優(yōu)良去除金屬離子的性能,降低待加工片的表面金屬離子沾污。
表面活性劑可降低表面張力,提高凹凸選擇比,又能起到滲透和潤滑作用,從而有效的提高了交換速率,增強了輸運過程,達(dá)到高平整高光潔表面。
本產(chǎn)品的有益效果和優(yōu)點:
1.選用堿性拋光液,可對設(shè)備無腐蝕,硅溶膠穩(wěn)定性好,解決了酸性拋光液污染重、易凝膠等諸多弊端;利用基片材料的***性,pH值9以上時,易生成可溶性的化合物,從而易脫離表面;
2.選用納米SiO2溶膠作為拋光液磨料,其粒徑小(20-30nm)、濃度高(>35%)、硬度?。▽瑩p傷度小)、分散度好,能夠達(dá)到高速率高平整低損傷拋光、污染小,解決了Al2O3磨料硬度大易劃傷、易沉淀等諸多弊端;
3.選用表面活性劑的應(yīng)用,增加了高低選擇比,大大降低了表面張力、減小了損傷層、提高了基片表面的均一性、使得表面凹凸差大大降低,從而有效的提高了交換速率,增強了輸運過程,達(dá)到高平整高光潔表面;
4.選用有機(jī)堿作為拋光液pH調(diào)節(jié)劑,可起到緩沖劑的作用,又可生成大分子產(chǎn)物且溶于水,使反應(yīng)產(chǎn)物在小的機(jī)械作用下即可脫離加工表面,同時還能起到絡(luò)合及螯合作用。
YH/02型藍(lán)寶石襯底材料拋光液技術(shù)指標(biāo)
項目 Item |
規(guī)格 Specificati*** |
磨料 SiO2 Material |
粒徑20-30nm |
加工藍(lán)寶石晶向 Orientation |
C軸(0001)&plu***n; 0.2° |
粘度viscosity |
≈4CP |
稀釋度 |
1: 1~1:3 |
PH值PH value |
>10.2 |
磨料含量Abrasive content |
>30 |
去除速率 MRR |
5-12um/h |
加工后總厚度偏差 TTV |
≦ 25μm |
加工后翹曲度 BOW |
≦ 20μm |
加工后表面粗糙度Surface Roughness(Sq) |
Sq<0.3nm |
表面粗糙度的測定
加工前后原子力顯微鏡(AFM)掃描圖(安捷倫5600ls檢測)
AFM surface view before CMP |
AFM surface view after CMP |
|
|
加工前后原子力顯微鏡(AFM)參數(shù)(安捷倫5600ls檢測)
|
Before CMP |
After CMP |
Sq |
16.8 nm |
0.221 nm |
Ssk |
-0.0822 |
0.0366 |
Sku |
3.71 |
2.23 |
Sq |
86.3 nm |
2.94 nm |
Sv |
81.2 nm |
1.34 nm |
Sz |
168 nm |
4.28 nm |
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