zfcz真空磁控濺射+蒸發(fā)鍍膜機(jī)
      性能
      真空室結(jié)構(gòu)立式雙開門、立式單門、臥式單開門、后置真空獲得系統(tǒng)
      電源類型電阻蒸發(fā)電源、離子轟擊電源、燈絲電源、脈沖偏壓電源、直流磁控電源、中頻磁控電源
      鍍膜室尺寸Ф900×H1100mmФ1000×H1200mmФ1200×H1400mmФ1400×H1600mmФ1600×H1800mmФ1800×H2000mm
      鍍膜室材質(zhì)優(yōu)質(zhì)不銹鋼材質(zhì)
      極限真空8.0×10-4Pa
      抽氣時(shí)間
      (空載）
      從大氣抽至6.5.0×10-2Pa≤8分鐘
      真空獲得系統(tǒng)擴(kuò)散泵或分子泵+羅茨泵+機(jī)械泵+維持泵（型號(hào)可根據(jù)客戶的需求進(jìn)行配置）
      鍍膜方式蒸發(fā)鍍膜+磁控濺射鍍膜
      鍍膜種類金屬膜、半透明膜、不導(dǎo)電膜、電磁屏蔽膜、介質(zhì)膜等
      磁控靶類型矩形磁控靶、圓柱形磁控靶、孿生磁控對(duì)靶
      磁控偏壓電源功率及靶數(shù)量根據(jù)不同鍍膜工藝和客戶的需求進(jìn)行選配
      工件回轉(zhuǎn)***大有限直徑6軸 Ф260mm6軸 Ф280mm
      8軸 Ф260mm6軸 Ф360mm
      8軸 Ф280mm6軸 Ф420mm
      8軸 Ф350mm6軸 Ф460mm
      8軸 Ф380mm6軸 Ф560mm
      8軸 Ф460mm
      蒸發(fā)電極標(biāo)配2對(duì)
      蒸發(fā)功率35KW
      整機(jī)總功率85KW
      工藝氣體2路或3路工藝氣體流量控制及顯示系統(tǒng) 選配自動(dòng)加氣系統(tǒng)
      冷卻方式水循環(huán)冷卻方式，另需配冷卻水塔或工業(yè)冷水機(jī)。（客戶提供）
      工件轉(zhuǎn)架
      轉(zhuǎn)動(dòng)方式行星式公自轉(zhuǎn)、變頻調(diào)速（可控可調(diào)）
      控制方式手動(dòng)/自動(dòng)一體化方式、觸摸屏操作、PLC或計(jì)算機(jī)控制
      報(bào)警及保護(hù)對(duì)缺水、過(guò)流過(guò)壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警，并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施。
      設(shè)備占地面積W3m×L3mW3m×L3mW3.5m×L4mW5m×L5mW6m×L6mW6m×L8m
      其他技術(shù)參數(shù)水壓≥0.2MPa、水溫≤25℃、氣壓0.5-0.8MPa
      備 注鍍膜設(shè)備的具體配置可根據(jù)客戶的鍍膜產(chǎn)品工藝要求進(jìn)行設(shè)計(jì)。