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***示蹤原子分析和質(zhì)譜分析表明,采用雙氧體系清洗硅片效果好,同時所用的全部化學(xué)*** H2O2、NH4OH、HCl能夠完全揮發(fā)掉。用H2SO4和H2O2清洗硅片時,在硅片表面會留下約2×1010原子每平方厘米的硫原子,用后一種酸性清洗液時可以完全被清除。用H2O2體系清洗硅片無殘留物,***性小,也有利于工人健康和環(huán)境保護(hù)。硅片清洗中用各步清洗液處理后,都要用超純水徹底沖洗。
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③超聲波清洗:超聲波聲能傳入溶液,靠氣蝕作用洗掉片子上的污染。但是,從有圖形的片子上除去小于 1微米顆粒則比較困難。將頻率提高到超高頻頻段,清洗效果更好。化學(xué)清洗化學(xué)清洗是為了除去原子、離子不可見的污染,方法較多,有溶劑萃取、酸洗(***、、王水、各種混合酸等)和等離子體法等。
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