深圳市福斯泰電鍍?cè)O(shè)備制造廠是一家***從事電鍍?cè)O(shè)備的研發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷(xiāo)售和服務(wù)為一體的私營(yíng)廠家。

我們本著以“客戶為至上、技術(shù)為創(chuàng)新、質(zhì)量為保證、服務(wù)為周到。”的經(jīng)營(yíng)理念立足于市場(chǎng)。 

銷(xiāo)售***:0755-29591425
我們能為您做到的產(chǎn)品：
1、電鍍?cè)O(shè)備：
制造PP、PVDF、PVC槽及不銹鋼槽(電鍍槽/電解槽/氧化槽/化成槽)。
2、電鍍生產(chǎn)線：
全自動(dòng)龍門(mén)式生產(chǎn)線、全自動(dòng)環(huán)型式生產(chǎn)線、小型半自動(dòng)滾鍍生產(chǎn)線。
3、周邊設(shè)備：
工業(yè)廢氣處理凈化塔設(shè)備、工業(yè)廢水處理設(shè)備、超聲波清洗機(jī)、工業(yè)純水機(jī)、冷水機(jī)、整流機(jī)、過(guò)濾機(jī)、烘箱、離心機(jī)、過(guò)濾紙、過(guò)濾棉蕊。

光掩膜版（Photomask）又稱光罩，是在含有金屬薄膜的玻璃基板（Blanks）上，形成復(fù)雜幾何圖（Geometry）的圖形轉(zhuǎn)移母板即俗稱的Mask。例如在半導(dǎo)體的***制程中，利用光掩膜版模板以及***的手段就能夠在硅基板上形成電路Pattern?，F(xiàn)在，隨著LCD的大型化和***能化，光掩膜版也在不斷的提高自身的精細(xì)化以及大尺寸化，比如在超過(guò)1200mm的玻璃上，實(shí)現(xiàn)線寬必須達(dá)到數(shù)微米的高精準(zhǔn)度的要求。

光掩膜版制程簡(jiǎn)單來(lái)描述，是在基板（Blanks）上涂上光阻（Resist）材料，利用鐳射電子束設(shè)備繪刻出所需的各種Geometry，并繼續(xù)進(jìn)行顯影的制程，去除掉基板（Blanks）上多余的光阻材料，再透過(guò)蝕刻的制程，去除掉不被光阻材料覆蓋的金屬膜，***后再清洗殘留下來(lái)的光阻材料，***后便會(huì)依照鉻膜的線路，讓Geometry留在玻璃基板上。***后還必須進(jìn)行檢查、測(cè)量并確認(rèn)是否正確精準(zhǔn)的形成了Geometry，并在超高精細(xì)的光掩膜版上貼附用來(lái)防止灰塵以及靜電的保護(hù)膜（Coating）之后出廠。

目前光掩膜版的基板材料，較常被使用的有石英玻璃和蘇打玻璃（Soda-lime）玻璃兩種。蘇打玻璃較多被應(yīng)用在STN-LCD、TN-LCD、FED、EL等產(chǎn)品的生產(chǎn)上，而用于TFT-LCD的光掩膜版，由于熱膨脹率小，所以尺寸精度要求較高，并且因?yàn)樾枰?0％以上的良好透光率，因此采用了能實(shí)現(xiàn)高精細(xì)程度Geometry的石英玻璃。而利用鉻元素作為遮光材料的理由是，鉻不但可以鍍出均一的厚度，并且在蝕刻制程中還能加工出精細(xì)的線路，實(shí)現(xiàn)更高分辨率的目標(biāo)，而且光掩膜版上的鉻是一種無(wú)***無(wú)污染的元素，符合Rohs安全管控標(biāo)準(zhǔn)，所以目前就用來(lái)光掩膜版的遮光材料這一方面，可以說(shuō)目前還沒(méi)有比金屬鉻更合適的材料。
1、PCB、LCD掩模版、干版掩模版、包括BGA、HDI等；
2、TFT、彩色STN、STN和TNLCD鉻版掩膜版；
3、STN、TN超微粒干版掩模版；
4、EL、OLED、Display鉻版掩模版；
5、IC Lead Frame鉻版掩模版；
6、PDP/VFD用鉻版、干版掩模版；
7、精細(xì)電子元器件用掩模版，包括貼片式電感、電容、電阻和傳感器等；
8、各種***集成電路封裝基板鉻版，干版掩模版；
9、各種編碼用鉻版掩模版；
10、LCD用300、400線PI印刷凸版。
掩模版設(shè)備/PP放版架/PP涼版架/PVC顯影槽/全自動(dòng)掩膜版蝕刻設(shè)備/蝕刻槽/蝕刻生產(chǎn)線/清洗籃/鉻版掩模版設(shè)備