ntroduction to PVD Technology

        真空鍍膜是在真空中把真空中的鈦，金，石墨，水晶之類的金屬或非金屬，***體等材料利用濺射，蒸***，等離子體等技術(shù)，在基材上***成薄膜的一種表面***理過程。與傳統(tǒng)化***鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多的優(yōu)點(diǎn)：如對(duì)環(huán)境***汚染，是***色環(huán)保工藝，對(duì)操作者***傷害，鍍層牢固，膜層致密性好，均勻抗腐蝕性強(qiáng)及耐磨性高！

       真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸***鍍膜（包括***弧蒸***，***子***蒸***，***阻絲蒸***等）；濺射鍍膜（包括直流磁控濺射，中頻磁濺射，射頻濺射等技術(shù)），這些方法統(tǒng)稱為物理***相沉積（Physical Vapor Deposition),簡稱PVD 。與之相對(duì)應(yīng)的化******相沉積（Chemical Vapor Deposition)  簡稱為 CVD 技術(shù)。

       行***內(nèi)通常所說的“IP”（ION PLATING）  離子鍍膜，是對(duì)PVD技術(shù)中由各種菜***體離子和金屬離子參與成膜過程並在其中起到重要作用，為了強(qiáng)調(diào)離子的作用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。也可以相對(duì)的認(rèn)為IP技術(shù)是PVD的另一種稱呼！