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真空鍍膜機(jī)工件除氣的必要性和真空鍍膜機(jī)分類(lèi)介紹
真空狀態(tài)是支持真空鍍膜機(jī)運(yùn)作的環(huán)境,特別是需要高真空度的設(shè)備,通常我們需要達(dá)到高真空度,抽氣系統(tǒng)的作用是功不可沒(méi)的,但除了抽氣系統(tǒng)外,在真空鍍膜設(shè)備運(yùn)行的過(guò)程中,還有一點(diǎn)就是,工件的除氣。
有些工件它本身內(nèi)部存在著很多的氣體、水分等,這些物質(zhì)都會(huì)隨著設(shè)備加熱時(shí)被排放到真空室中,降低了真空度,更甚者,有些氣體帶***性成分,直接損害到真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu),造成設(shè)備不能正常運(yùn)作。另外,正在鍍膜過(guò)程中,由于工件內(nèi)氣體加熱膨脹,容易使已經(jīng)鍍上的膜層裂開(kāi),當(dāng)然這個(gè)情況出現(xiàn)的機(jī)率視工件本身物理性質(zhì)有關(guān),像塑料等容易膨脹的,機(jī)率就比較高,像金屬等硬質(zhì)的,機(jī)率就比較低,但也不能忽視,因此工件的除氣是非常必要的。
通常我們使用的工件除氣方法是烘烤,通過(guò)加熱把工件內(nèi)的氣體、水分排出,在鍍膜前,抽氣的同時(shí),對(duì)工件進(jìn)行加熱,當(dāng)工件內(nèi)水分和氣體由于加熱而放出后,隨著真空室內(nèi)的氣體一起被真空泵抽出。
針對(duì)不同的工件采取不一樣的除氣措施,有效控制工件內(nèi)部氣體與水分排放,提高鍍膜的穩(wěn)定性和均勻性。真空鍍膜機(jī)分類(lèi)和適用范圍真空鍍膜機(jī)主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類(lèi),包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。
真空鍍膜機(jī)是如何操作真空電阻式蒸發(fā)鍍膜機(jī)的
隨著真空鍍膜機(jī)的工藝發(fā)展不斷革新,而硬質(zhì)薄膜的設(shè)計(jì)向著多元化、多層膜的方向發(fā)展。成為現(xiàn)代企業(yè)優(yōu)選的鍍膜工藝。今天我們通過(guò)中國(guó)真空協(xié)會(huì)的***剖析后,給予詳細(xì)作答。其實(shí)鍍膜機(jī)的正常操作方法應(yīng)該參考操作手冊(cè)的指示操作。
不過(guò)大致的操作程序,我們簡(jiǎn)單的說(shuō)一下吧:
1、檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開(kāi)關(guān)是否在;關(guān)位置。
2、打開(kāi)總電源開(kāi)關(guān),真空鍍膜設(shè)備送電。
3、低壓閥拉出。開(kāi)充氣閥,聽(tīng)不到氣流聲后,啟動(dòng)升鐘罩閥,鐘罩升起。
4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤(pán)上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位,保證無(wú)任何雜質(zhì)污物。
5、落下鐘罩。
6、啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。
7、開(kāi)復(fù)合真空計(jì)電源(復(fù)合真空計(jì)型號(hào):Fzh-1A)。
8、多弧離子鍍膜機(jī)當(dāng)?shù)驼婵毡韆mp;ldquo;2amp;rdquo;內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),低壓閥推入。
9、真空鍍膜設(shè)備開(kāi)通冷卻水,啟動(dòng)擴(kuò)散泵,加熱40min。
10、低壓閥拉出。立式單開(kāi)門(mén)鍍膜機(jī)重復(fù)一次⑦動(dòng)作程序:左下旋鈕;轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測(cè)量位置。低真空表;內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng),當(dāng)指針移動(dòng)至6.7Pa時(shí),開(kāi)高壓閥。
真空鍍膜機(jī)薄膜均勻性概念
1.厚度上的均勻性:也能夠理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的標(biāo)準(zhǔn)上看(也即是1/10波長(zhǎng)作為單位,約為100A),真空鍍膜機(jī)的均勻性現(xiàn)已相當(dāng)好,能夠輕松將粗糙度操控在可見(jiàn)光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi),也即是說(shuō)關(guān)于薄膜的光學(xué)特性來(lái)說(shuō),真空鍍膜沒(méi)有任何妨礙。
2.化學(xué)組分上的均勻性:即是說(shuō)在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于標(biāo)準(zhǔn)過(guò)小而很簡(jiǎn)單的發(fā)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,假如鍍膜進(jìn)程不科學(xué),那么實(shí)踐外表的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的份額,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技能含量地點(diǎn)。
3.晶格有序度的均勻性:這決議了薄膜是單晶,多晶,非晶,是真空鍍膜技能中的熱點(diǎn)問(wèn)題。
多片式比較片裝置的設(shè)計(jì)特點(diǎn)
1)固定筒圓筒形狀、大直徑、厚壁結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)和周向?qū)ΨQ(chēng)的固定方式,可保證其有足夠的強(qiáng)度和剛度,同時(shí),還可阻止高溫濺射磨料對(duì)其內(nèi)部零部件污染,保證撥動(dòng)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的靈活性。
2)圓形軸承座的設(shè)計(jì),保證軸承座安裝的密封性和垂直度;增大軸的直徑尺寸,加大軸承座中兩軸承的安裝間距,提高其自身的強(qiáng)度和剛度,保證轉(zhuǎn)動(dòng)過(guò)程中軸1的剛度和撥動(dòng)盤(pán)的旋轉(zhuǎn)靈活性、位置重復(fù)的一致性。
3)裝載換位機(jī)構(gòu),通過(guò)擴(kuò)大支承盤(pán)的直徑,使該機(jī)構(gòu)在平面方向的有效面積增大,可安裝直徑大(Φ26.5mm)的比較片,有利于光路調(diào)整,提高光學(xué)薄膜質(zhì)量;比較片由單片玻璃作為一個(gè)比較片單元,比較片采用空間立體疊加安裝方式,多片玻璃疊加安裝在一個(gè)比較片存儲(chǔ)筒內(nèi),實(shí)現(xiàn)一次可放置50~100片比較片,解決鍍膜機(jī)鍍制多層精密光學(xué)薄膜,比較片數(shù)量少影響鍍膜層數(shù)和精度的問(wèn)題。
4)***盤(pán)與槽型光藕的配合,通過(guò)槽型光藕來(lái)感知***盤(pán)上三個(gè)均分的120°狹縫,控制電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)停止。軸1旋轉(zhuǎn)***重復(fù)的一致性得到保證,帶動(dòng)撥動(dòng)盤(pán)完成準(zhǔn)確的撥片動(dòng)作。
5)轉(zhuǎn)動(dòng)密封饋入機(jī)構(gòu)引入威爾遜密封機(jī)構(gòu),既保證電機(jī)通過(guò)齒輪嚙合帶動(dòng)軸的靈活轉(zhuǎn)動(dòng),又保證真空室對(duì)外部的密封作用。優(yōu)化設(shè)計(jì)的真空鍍膜機(jī)多片式比較片裝置,其特點(diǎn):(1)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,強(qiáng)度高,可靠性好;(2)比較片裝載數(shù)量大,生產(chǎn)效率提高,可鍍制超多層精密光學(xué)薄膜;(3)比較片直徑增大,提高薄膜監(jiān)控的精度,降低對(duì)硬件系統(tǒng)的要求,系統(tǒng)容易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制;