由鋼研納克承擔的***重大科學儀器設備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應用”取得重要進展。本專項開發(fā)內容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質譜儀。目維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題，接近于商品水平的產品樣機將于年內完成；ICP質譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調試，采集到正確的譜圖，這一突破標志著在第二代樣機上采用的自主設計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關鍵、難點技術已經實現(xiàn)原理。為高質量、按期完成項目任務和本單位新產品開發(fā)任務奠定了堅實的基礎。

鋼研納克Pla***a 1000 單道掃描ICP光譜儀

1.   光路形式：Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀

2.   光室恒溫：(30±0.2)℃      

3.   光柵類型：離子刻蝕全息平面光柵

4.   分辨率：不大于0.007nm  

5.   刻線密度：3600g/mm          

6.   高頻發(fā)生器震蕩頻率：40.68MHz   功率穩(wěn)定度：0.1%（長期25℃典型值）

7.   震蕩類型：自激式        

8.   進樣方式：蠕動泵進樣

配有多種霧室（旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室）

9.   霧1化器：同心霧化1器

10. 重復性：RSD ≤1.0%

11. 穩(wěn)定性：RSD ≤2.0%（2小時）

12. 冷卻氣：10-20L/min

13. 輔助氣：0-1.5 L/min

14. 載氣：0.4-1L/min

15. 尺寸：1550mm×759mm×1340mm（長×寬×高）

16. 重量：240公斤

鋼研納克：固態(tài)光源ICP，國產單道掃描ICP進入固態(tài)光源時代

穩(wěn)健的全固態(tài)光源ICP光譜儀 鋼研納克 Pla***a 1500

全固態(tài)射頻發(fā)生器，體積小、，全自動負載匹配，速度快、精度高，全固態(tài)光源ICP光譜儀能適應各種復雜基體樣品及揮發(fā)性的測試，具有優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。

垂直炬管的設計，具有更好的樣品耐受性，ICP光譜分析儀價格，減少了清潔需求，降低了備用炬管的消耗。

簡潔的炬管安裝***設計，ICP光譜分析儀，快速***，ICP光譜分析儀廠家，的位置重現(xiàn)。

具有低功率待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，ICP光譜分析儀多少錢，節(jié)約使用成本。

實時監(jiān)控儀器運行參數(shù)，以太網(wǎng)及CAN工業(yè)現(xiàn)場總線，保障通訊可靠。