真空鍍膜機(jī)鍍制薄膜不均勻的解決方法

制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來(lái)控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源，不過(guò)有真空計(jì)的存在，要控制好還是不成問(wèn)題的。

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如何選擇真空鍍膜設(shè)備供應(yīng)商

是否需要配置低溫捕集器PolyCold，低溫捕集器可以說(shuō)是一種錦上添花的設(shè)備，它能夠大大提高抽氣的速度，真空鍍膜價(jià)格，將真空室內(nèi)的可凝性氣體吸附在冷盤管上，凈化真空室內(nèi)的氣氛，使膜層質(zhì)量更好，在炎熱潮濕的夏季，低溫捕集器的使用無(wú)疑在很大程度上，提高了生產(chǎn)效率。

冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，鍍膜機(jī)需要配置冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，冷卻水好使用去離子水，對(duì)于防腐蝕有很大的作用，特別是真空室的焊道，一些容易生銹的部件等都有很好的***作用，可以在去離子水中添加一些防腐劑，也可以防腐蝕。

真空鍍膜基礎(chǔ)知識(shí)

電阻蒸發(fā)源蒸鍍法

采用鉭，鉬，真空鍍膜，鎢等高熔點(diǎn)金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓氣流通過(guò)，對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁，氧化鈹?shù)熔徨佒羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā)，這就是電阻加熱蒸發(fā)法。

利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)便宜，使用可靠，可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對(duì)鍍膜質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中，迄今為止，在鍍鋁制鏡的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。

電阻加熱方式的缺點(diǎn)是：加熱所能達(dá)到的高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來(lái)，真空鍍膜系統(tǒng)，為了提高加熱器的壽命，真空鍍膜多少錢，國(guó)內(nèi)外已采用壽命較長(zhǎng)的氮化硼合成的導(dǎo)電陶瓷材料作為加熱器。據(jù)日本報(bào)道，可采用20％～30％的氮化硼和能與其相熔的耐火材料所組成的材料來(lái)制作坩鍋，并在表面涂上一層含62％～82％的鋯，其余為鋯硅合金材料。

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