愛德華真空泵GX100L、GX100N、GX300L、GX600L、GX600N、GX1000N

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EDWA***愛德華半導(dǎo)體干式真空泵QDP40、QDP80、iXL250Q、iXL500R、iXL750Q介紹

哪些半導(dǎo)體制程可能會(huì)用到真空泵？

干式真空泵是半導(dǎo)體各制程中必備的通用設(shè)備，應(yīng)用于單晶拉晶、Load-Lock、刻蝕、CVD、原子層沉積（ALD）、封裝、測試等清潔嚴(yán)苛的制程。

EDWA***干式真空泵系統(tǒng)有哪些系列和型號(hào)？

iH系列半導(dǎo)體干式真空泵型號(hào)包括：iH80、iH160、iH1000、iH1800

iXH系列半導(dǎo)體干式真空泵型號(hào)包括：iXH100、iXH200、iXH200H、iXH500H、iXH500Q、iXH610、iXH645H、iXH1210、iXH1210H、iXH1220H。

iXL系列半導(dǎo)體干式真空泵：iXL120、iXL120N、iXL1000、IPUP2、iXL250Q、iXL500Q、iXL500R、iXL750Q

EPX系列半導(dǎo)體干式真空泵：EPX180L、EPX180LE、EPX180N、EPX180NE、EPX500L、EPX500LE、EPX500N、EPX500NE。

GX系列半導(dǎo)體干式真空泵：GX100L、GX100N、GX300L、GX600L、GX600N、GX1000N。

IQDP系列半導(dǎo)體干式真空泵：IQDP40、IQDP80

QDP系列半導(dǎo)體干式真空泵：QDP40、QDP80

如何在半導(dǎo)體制造過程中獲得高質(zhì)量的真空環(huán)境？

在半導(dǎo)體制造過程中，經(jīng)常涉及納米級(jí)別的物理或化學(xué)反應(yīng)，在這種情況下，若處于通常的大氣狀態(tài)將很大程度影響半導(dǎo)體質(zhì)量。以外延生長為例，在常規(guī)環(huán)境下，晶體表面將接觸幾億個(gè)氣體分子，會(huì)阻礙外延層的有序排列，引入大量缺陷。合適穩(wěn)定的真空度將為半導(dǎo)體的***性能提供有利基礎(chǔ)。

半導(dǎo)體的工廠環(huán)境需要非常接近，千級(jí)、百級(jí)、十級(jí)是對(duì)空氣顆粒度的要求，但是真空需要達(dá)到萬分之一的壓力，這個(gè)級(jí)別幾乎是0級(jí)的，達(dá)到一個(gè)非常潔凈的環(huán)境。

潔凈的環(huán)境有兩點(diǎn)不同的要求：

***、要穩(wěn)定的維持在這個(gè)低壓的環(huán)境，稍微的壓力回升，就意味著雜余的分子會(huì)擴(kuò)散回來，***掉潔凈的環(huán)境。

第二、真空泵在沒有運(yùn)作起來以前，是暴露在大氣里的，所以我們的真空設(shè)備以及相關(guān)的電氣控制設(shè)備，它的污染程度不能高于它所處的潔凈環(huán)境，這就要求真空泵在制造過程中也要像生產(chǎn)F1***一樣在一個(gè)潔凈的環(huán)境里面去生產(chǎn)，所以這個(gè)是半導(dǎo)體真空泵面臨的兩個(gè)主要挑戰(zhàn)。

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