化學(xué)拋光是金屬表面通過(guò)有規(guī)則溶解達(dá)到光亮平滑。在化學(xué)拋拋光材料，拋光蠟(4張) 光過(guò)程中，鋼鐵零件表面不斷形成鈍化氧化膜和氧化膜不斷溶解，且前者要強(qiáng)于后者。由于零件表面微觀的不一致性，表面微觀凸起部位優(yōu)先溶解，且溶解速率大于凹下部位的溶解速率；而且膜的溶解和膜的形成始終同時(shí)進(jìn)行，只是其速率有差異，結(jié)果使鋼鐵零件表面粗糙度得以整平，從而獲得平滑光亮的表面。拋光可以填充表面毛孔、劃痕以及其它表面缺陷，從而提高疲勞阻力、腐蝕阻力

三種主流研磨拋光技術(shù)1、種是物理研磨這種研磨顆粒呈不規(guī)則菱形狀，粗中細(xì)級(jí)別都有，去氧化和劃痕效果相當(dāng)不錯(cuò)，化學(xué)拋光劑銷售，是市面主流研磨拋光技術(shù)；而帶棱角的粗研磨劑往往造成二次細(xì)微劃痕，需要更細(xì)一級(jí)的研磨劑二次以上研磨，程序復(fù)雜，同時(shí)不可避免的傷及漆面。經(jīng)常使用這種研磨產(chǎn)品和技術(shù)，讓漆面像般的依賴拋光打蠟，清漆層已越拋越薄，原車漆光亮度黯然失色2、第二種是物理+覆蓋研磨剛拋完的粗中劃痕消失，有光亮效果，但在太陽(yáng)光下有明顯細(xì)微劃痕和旋光，原因：部份劃痕被蠟或樹(shù)脂油性成份填補(bǔ)，化學(xué)拋光劑，而非真正去除；油性過(guò)大，拋光毛球行走紋路產(chǎn)生旋光。這種拋光方式極易在洗二三次車后劃痕重現(xiàn)，具有較強(qiáng)的欺騙性。不知就理的店主和技師將非常煩惱！3、第三種是比較和少見(jiàn)的研磨技術(shù)破碎拋光技術(shù)，研磨劑呈玻珠圓狀，不會(huì)造成二次研磨劃痕，同時(shí)漆面的溫度較低；當(dāng)拋光毛球高速運(yùn)轉(zhuǎn)與研磨劑產(chǎn)生一定的溫度時(shí)，使研磨顆粒瞬間破碎，形成更細(xì)顆粒，有效對(duì)細(xì)微深層拋光，一步到位，越拋越亮，這種拋光技術(shù)即保證了效果，化學(xué)拋光劑生產(chǎn)商，也的了拋光對(duì)漆面的傷害（拋光必有傷害）！同時(shí)這類研磨劑不含蠟或樹(shù)脂油性成份，拋出的光澤是漆面深邃的原漆光澤，冷光質(zhì)感今人驚艷。

半導(dǎo)體行業(yè)CMP技術(shù)還廣泛的應(yīng)用于集成電路(IC)和超大規(guī)模集成電路中(ULSI)對(duì)基體材料硅晶片的拋光。隨著半導(dǎo)體工業(yè)的急速發(fā)展，對(duì)拋光技術(shù)提出了新的要求，化學(xué)拋光劑廠家，傳統(tǒng)的拋光技術(shù)（如：基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射等）雖然也可以提供“光滑”的表面，但卻都是局部平面化技術(shù)，不能做到全局平面化，而化學(xué)機(jī)械拋光技術(shù)解決了這個(gè)問(wèn)題，它是可以在整個(gè)硅圓晶片上平坦化的工藝技術(shù)。

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