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用選定的圖像、圖形或物體,對處理的圖像(全部或局部)進行遮擋,來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱為掩?;蚰0?。光學(xué)圖像處理中,掩??梢允悄z片、濾光片等。數(shù)字圖像處理中,掩模為二維矩陣數(shù)組,有時也用多值圖像。
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使用鉻刻蝕液進行濕法刻蝕,將暴露出的鉻層刻蝕掉形成透光區(qū)域,而受光刻膠保護的鉻層不會被刻蝕,形成不透光區(qū)域。這樣便在掩膜版上形成透光率不同的平面圖形結(jié)構(gòu)。
在有必要的情況下,制版報價,使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層,徐州制版,并對掩膜版進行清洗。
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光刻掩模版通常用石英玻璃做為化學(xué)反應(yīng),選用方解石是因為其的近紫外線穿透率。掩模版遮光一部分用Cr,因此有時候也叫鉻板。選用燈的g線應(yīng)i線,在于你常用的光刻膠,每個光刻膠產(chǎn)品介紹都是列舉其所比較敏感的納米段。
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