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不銹鋼蝕刻板十分的具有觀賞性，同時它還具有鋼材的強度和硬度，這樣鋼材就不僅僅出現(xiàn)在建筑中了。在我們身邊很多東西都可以用鋼材了。比如說桌子，椅子等這些常用的居家用品都用的是不銹鋼蝕刻板了。

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廣泛用于化工、食品、、造紙、石油、原子能等工業(yè)，以及建筑、廚具、餐具、車輛、家用電器各類零部件。

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不銹鋼蝕刻板是在不銹鋼表面通過化學(xué)的方法，腐蝕出各種花紋圖案。以8K鏡面板、拉絲板、噴砂板為底板，進行蝕刻處理后，佛山腐蝕設(shè)備面板加工，對物體表面再進行深加工，不銹鋼蝕刻板可進行局部的和紋，拉絲，嵌金，局部鈦金等各式復(fù)雜工藝處理，不銹鋼蝕刻板實現(xiàn)圖案明暗相間，色彩絢麗的效果。

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常見蝕刻減薄工藝和設(shè)備都有哪些特點？

對于LCD面板/玻璃基板的不同減薄工藝的優(yōu)劣，在薄化行業(yè)實際生產(chǎn)運用時，一直都很多不同聲音和爭議。由于不同蝕刻減薄產(chǎn)品和作業(yè)環(huán)境，以及客戶需求等實際情況，從整體的生產(chǎn)加工需要而言，相同的設(shè)備在不同企業(yè)中，不同的企業(yè)管理，操作工藝和設(shè)備改造情況，也會有著不同生產(chǎn)作業(yè)效果。在此，我們對目前大家常見或已有一定共識理解的薄化行業(yè)中蝕刻減薄工藝和設(shè)備使用情況，進行一些概述。

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蝕刻的作用：線路成型。

蝕刻分為干蝕刻與濕蝕刻，其區(qū)別如下：

干蝕刻：利用不易被物理、化學(xué)作用*壞的物質(zhì)光阻來阻擋不欲去除的部分，利用電漿的離子轟擊效應(yīng)和化學(xué)反 應(yīng)去掉 想去除的部分，腐蝕設(shè)備面板加工廠家，從而將所需要的 線路圖形留在玻璃基板上。干蝕刻等向性蝕刻與異向性蝕刻同時存在。

濕蝕刻：利用化學(xué)藥液將需要蝕刻掉的物質(zhì)蝕刻掉。濕蝕刻為等向性蝕刻。濕蝕刻機臺便宜，蝕刻速度快，但難以精x確控制線寬和 獲得極其精細(xì)的圖形并且需要大量用水，污染大 ；干蝕刻機臺價格昂貴，蝕刻速度速度慢，但可以精x確控制線寬能獲得極其精細(xì)的圖形，而且 不需要用水，污染小。

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蝕刻是制造薄膜晶體管液晶顯示裝置(ThinFirm Transistor Liquid Crystal Display，TFT_LCD)陣列基板過程中的一個重要制程。蝕刻工藝根據(jù)蝕刻劑的物理狀態(tài)分為干蝕刻工藝和濕蝕刻工藝，干蝕刻工藝?yán)梦g刻氣體進行蝕刻，濕蝕刻工藝?yán)梦g刻液體進行蝕刻。

現(xiàn)有的干蝕刻裝置通常包括:真空腔(未圖示)、設(shè)于所述真空腔內(nèi)的上電極板(未圖示)、與上電極板相對間隔設(shè)置的下電極板1、位于所述下電極板I下方用于承載下電極板I的絕緣板2、設(shè)于所述下電極板I上的靜電吸附平臺3、位于上、下電極板I之間的等離子體(Pla**a)真空放電區(qū)(未圖示)、及與上、下電極板相連的電源(未圖示)，利用等離子體真空放電區(qū)內(nèi)的高壓電場互相作用所產(chǎn)生的等離子體來對設(shè)于靜電吸附平臺3上的晶元或玻璃基板4進行蝕刻。

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干法刻蝕是用等離子體進行薄膜刻蝕的技術(shù)。當(dāng)氣體以等離子體形式存在時，它具備兩個特點:一方面等離子體中的這些氣體化學(xué)活性比常態(tài)下時要強很多，根據(jù)被刻蝕材料的不同，選擇合適的氣體，就可以更快地與材料進行反應(yīng)，實現(xiàn)刻蝕去除的目的?，F(xiàn)有技術(shù)中，高速率干法刻蝕所用等離子激發(fā)手段主要為I***(Impressed Current CathodicProtect 1n，外加電流陰極保護)，若要想進一步提高刻蝕速率，一般來說可以通過提高等離子體激勵源頻率來獲得更高的等離子體截止密度，達(dá)到提高刻蝕速率的目的。但提高激勵源頻率會導(dǎo)致電極表面駐波等問題，導(dǎo)致刻蝕速率不均勻，無法大面積均勻刻蝕。

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