磁控濺射鍍膜設(shè)備及技術(shù)

（專利技術(shù)）該設(shè)備選用磁控濺射鍍一層薄薄的膜（MSP）技術(shù)性，是這種智能、率的鍍膜設(shè)備?？梢罁?jù)客戶規(guī)定配備轉(zhuǎn)動(dòng)磁控靶、單脈沖濺射靶、中頻孿生濺射靶、非均衡磁控濺射靶、霍耳等離子技術(shù)源、考夫曼離子源、直流電單脈沖累加式偏壓開關(guān)電源等，組態(tài)靈便、主要用途普遍，主要用于金屬材料或非金屬材料（塑膠、夾層玻璃、瓷器等）的鋼件鍍鋁、銅、鉻、鈦金板、銀及不銹鋼板等陶瓷膜或式陶瓷膜及滲金屬材料DLC膜，所鍍一層薄薄的膜層勻稱、高密度、粘合力強(qiáng)等特性，可普遍用以電器產(chǎn)品、時(shí)鐘、陶瓷藝術(shù)品、小玩具、大燈反光罩及其儀表設(shè)備等表層裝飾藝術(shù)鍍一層薄薄的膜及工磨具的作用鍍層。2離子轟擊滲擴(kuò)技術(shù)性的特性(1)離子轟擊滲擴(kuò)更快因?yàn)檫x用低溫等離子無心插柳，為滲劑分子和正離子的吸咐和滲人造就了高寬比活性的表層，提升了結(jié)晶中缺點(diǎn)的相對(duì)密度，比傳統(tǒng)式的汽體滲擴(kuò)技術(shù)性速率明顯增強(qiáng)。在一樣加工工藝標(biāo)準(zhǔn)下，滲層深度1在0.05二以內(nèi)，比汽體滲擴(kuò)提升1倍。在較高溫度下，1h就能達(dá)lmm厚。(2)對(duì)鋼件表層改..

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磁控濺射鍍膜儀應(yīng)用廣泛

目前我國(guó)磁控濺射鍍膜儀市場(chǎng)銷售非?；馃幔@是一項(xiàng)熱門的新技術(shù)，它帶給企業(yè)和廠家的不僅僅是技術(shù)，還能夠節(jié)省大量的人工運(yùn)作成本，因此深受廣大用戶的青睞。

磁控濺射鍍膜設(shè)備可制備多種薄膜，不同功能的薄膜，還可沉積組分混合的混合物、化合物薄膜；磁控濺射等離子體阻抗低，從而導(dǎo)致了高放電電流，在約５００Ｖ的電壓下放電電流可從１Ａ 到１００Ａ（取決于陰極的長(zhǎng)度）；成膜速率高，沉積速率變化范圍可從１ｎｍ／ｓ到１０ｎｍ／ｓ；成膜的一致性好，甚至是在數(shù)米長(zhǎng)的陰極濺射的情況下，仍能保證膜層的一致性；基板溫升低；濺射出來的粒子能量約為幾十電子伏特，磁控濺射，成膜較為致密，且膜基結(jié)合較好。

磁控濺射鍍膜設(shè)備得以廣泛的應(yīng)用是因?yàn)樵摷夹g(shù)的特點(diǎn)所決定的，其特點(diǎn)可歸納為：可制備成靶材的各種材料均可作為薄膜材料，包括各種金屬、半導(dǎo)體、鐵磁材料，以及絕緣的氧化物、陶瓷、聚合物等物質(zhì)。

另外磁控濺射調(diào)節(jié)參數(shù)則可調(diào)諧薄膜性能，尤其適合大面積鍍膜，沉積面積大膜層比較均勻。

近年來，磁控濺射鍍膜設(shè)備在我國(guó)愈發(fā)的流行，從側(cè)面反映出了我國(guó)工業(yè)發(fā)展十分迅速，今后設(shè)備取代人工的可能性是非常巨大的。

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濺射原理

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1.1 濺射定義

就像往平靜的湖水里投入石子會(huì)濺起水花一樣，用高速離子轟擊固體表面使固體中近表面的原子（或分子）從固體表面逸出，這種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象。

1.2 濺射的基本原理

濺射是指具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面使其中的原子發(fā)射出來。早期人們認(rèn)為這一現(xiàn)象源于靶材的局部加熱。但是不久人們發(fā)現(xiàn)濺射與蒸發(fā)有本質(zhì)區(qū)別，并逐漸認(rèn)識(shí)到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動(dòng)量傳遞的結(jié)果。

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