真空電鍍時產(chǎn)生掉膜的原因很多也很復(fù)雜。處理起來很棘手，可以考慮從以下幾個方面排除：
1、表面清潔度
產(chǎn)品表面潔凈度不夠，可以考慮離子源清洗時業(yè)氣放大、時間長點。
2、清洗過程中的問題
鍍前清洗不到位，或更換了清洗液。
3、工藝的問題
工藝參數(shù)是否有變動，在鍍膜時間和電流上做適當調(diào)整。
4、靶材的問題
鈦靶是否眾毒，檢查和更換。
5、真空腔是否漏氣
進行一次撿漏。
6、產(chǎn)品表面氧化
氧化的原因很多，可以自行判斷處理。
pvd真空鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域
6.在防偽技術(shù)中
防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。
7.在飛機防護涂層方面
飛機的鈦合金緊固件，原來采用電鍍方法鍍鎘。但在鍍鎘中含有氫，所以在飛行過程中，受到大氣、海水的腐蝕，鍍層上容易產(chǎn)生“鎘脆”，甚至引起“空難”。
1964年，真空鍍加工廠家，采用離子鍍方法在鈦合金緊固件上鍍鋁，汨羅真空鍍加工廠家，解決了飛機零件的“鎘脆”問題。在離子鍍技術(shù)中，由于給工件施加負偏壓，可以形成“偽擴散層”、細化膜層**，因此，可以顯著提高膜層的耐腐蝕性能。
8.在光學(xué)儀器中
人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠鏡、顯微鏡、照相機、測距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。
9.在信息存儲領(lǐng)域中
薄膜材料作為信息記錄于存儲介質(zhì)，有其得天獨厚的優(yōu)勢：
由于薄膜很薄，可以忽略渦流損耗；磁化反轉(zhuǎn)極為迅速；與膜面平行的雙穩(wěn)態(tài)狀態(tài)容易保持等。
為了更精密地記錄與存儲信息，武岡真空鍍加工廠家，必然要采用鍍膜技術(shù)。
10.在傳感器方面
在傳感器中，多采用那些電氣性質(zhì)相對于物理量、化學(xué)量及其變化來說，極為敏感的半導(dǎo)體材料。此外，其中，大多數(shù)利用的是半導(dǎo)體的表面、界面的性質(zhì)，需要盡量增大其面積，且能工業(yè)化、**格制作，因此，采用薄膜的情況很多。
11.在集成電路制造中
晶體管路中的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（鋁、銅及其合金）等，多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)?？梢姡浣婵斟兗庸S家，氣相沉積是制備集成電路的核心技術(shù)之一。
一、真空鍍膜器材污染物的來源及清潔處理
真空鍍膜器材由許多不同的零件組成，它們都是經(jīng)過各種機械加工完成得，例如車、銑、刨、磨、鏜、焊接等。這樣，零件表面不可避免地會沾上許多加工油脂、汗痕、拋光膏、焊劑、金屬屑、油垢等污染物。這些污染物在真空中易揮發(fā)，影響真空鍍膜設(shè)備的極限壓力和性能穩(wěn)定性。此外，污染物的大氣壓下吸附了大量的氣體，在真空環(huán)境中，這些氣體也要被釋放出來，構(gòu)成了限制真空鍍膜設(shè)備極限壓力的因素。為此，零件組裝前必須清除掉污染物。
二、真空鍍膜器材真空系統(tǒng)地清洗處理
1、油擴散泵真空系統(tǒng)地污染與防治
油擴散泵真空系統(tǒng)是使用廣泛的真空系統(tǒng)，其獲得真空度范圍為1.3*10-3~1.3*10-5Pa。油擴散泵真空系統(tǒng)構(gòu)成的各類真空鍍膜設(shè)備，常見的故障是真空度抽不上去或真空度抽不到原來的極限壓力水平。真空度抽不上去的原因需要仔細分析，可能是活動密封處松動、焊縫漏氣、真空泵或真空閥門等元件損壞等原因所導(dǎo)致。此外，真空室內(nèi)壁的油蒸汽污染，真空工藝過程各種污染物的污染也可能是主要原因。防止的方法是：定期清洗真空室。定期對油封機械真空泵和油金屬擴散泵進行清理。
2、超高真空系統(tǒng)地烘烤與清洗
由濺射離子泵和鈦升華泵組成的真空系統(tǒng)是目前獲得清潔超高真空的主要抽氣手段，能獲得低于1.3*10-3Pa的壓力。中小型真空鍍膜設(shè)備真空系統(tǒng)以濺射離子泵作為主泵，大型真空系統(tǒng)以鈦升華泵做主泵。超高真空系統(tǒng)要求真空室內(nèi)壁相當干凈，零件表面粗糙度要求高，材料放氣量要小。真空室零件要進行嚴格地清潔處理，不要用手接觸零件表面。真空室的漏率也要嚴加控制。除此外，還要對真空室進行烘烤。
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