微納光刻加工廠——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一

接觸式***和非接觸式***的區(qū)別，在于***時(shí)掩模與晶片間相對(duì)關(guān)系是貼緊還是分開。

正膠***前，光刻膠不溶于顯影液，***后，***區(qū)溶于顯影液，圖形與掩膜版圖形相同；而負(fù)性光刻膠，***前光刻膠可溶于顯影液，***后，被***區(qū)不溶于顯影液，圖形與掩膜版圖形相同。

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微納光刻加工廠——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一，主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，玻璃光刻工藝實(shí)驗(yàn)室，兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要，從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

光刻技術(shù)是指在光照作用下，借助光致抗蝕劑（又名光刻膠）將掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到基片上的技術(shù)。

掩膜板與光刻膠層的略微分開，大約為10～50μm?？梢员苊馀c光刻膠直接接觸而引起的掩膜板損傷。但是同時(shí)引入了衍射效應(yīng)，四川玻璃光刻工藝，降低了分辨率。1970后適用，但是其較大分辨率僅為2～4μm。

c、投影式***（ProjectionPrinting）。在掩膜板與光刻膠之間使用透鏡聚集光實(shí)現(xiàn)***。一般掩膜板的尺寸會(huì)以需要轉(zhuǎn)移圖形的4倍制作。優(yōu)點(diǎn)：提高了分辨率；掩膜板的制作更加容易；掩膜板上的缺陷影響減小。投影式***分類：掃描投影***（ScanningProjectPrinting）。70年代末～80年代初，〉1μm工藝；

掩膜板1：1，全尺寸；步進(jìn)重復(fù)投影***（Stepping-repeatingProjectPrinting或稱作Stepper）。

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光刻掩膜版清洗一般使用掩膜版清洗液，是有專門的額清洗機(jī)器的。首先將掩膜版放入掩膜版清洗機(jī)一邊沖洗一邊旋轉(zhuǎn)，將污染顆粒沖洗干凈，之后在高速旋轉(zhuǎn)烘干。目前而言，掩膜版清洗機(jī)可以清洗的掩膜版尺寸包括3寸，4寸，5寸，玻璃光刻工藝技術(shù)，6寸的掩膜版。

光刻是一門比較綜合的技術(shù)，它采用照相復(fù)印的技術(shù)，將光刻掩膜版上的圖形在涂有光刻膠的金屬蒸發(fā)層上。如果掩膜版受光刻膠污染，很大程度上會(huì)影響***，帶來(lái)影響，因此光刻過(guò)程中需要保持掩膜版的干凈。

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玻璃光刻工藝技術(shù)-四川玻璃光刻工藝-半導(dǎo)體光刻由廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所提供。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是從事“深硅刻蝕,真空鍍膜,磁控濺射,材料刻蝕,紫外光刻”的企業(yè)，公司秉承“誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)，用心服務(wù)”的理念，為您提供更好的產(chǎn)品和服務(wù)。歡迎來(lái)電咨詢！聯(lián)系人：曾經(jīng)理。