晶格有序度的均勻性：

這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問(wèn)題，具體見(jiàn)下。

主要分類(lèi)有兩個(gè)大種類(lèi)：

蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類(lèi)，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，廣州鋁板真空鍍膜，溶膠凝膠法等等

一、對(duì)于蒸發(fā)鍍膜：

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)，并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng))形成薄膜。

厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4、真空度

5、鍍膜時(shí)間，厚度大小。

組分均勻性：

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對(duì)于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

晶向均勻性：

1、晶格匹配度

2、基片溫度

3、蒸發(fā)速率

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)突破性技術(shù)，利用物理或者化學(xué)方法并吸收一系列新技術(shù)而成的工藝，目的就是為了在實(shí)際生產(chǎn)中為產(chǎn)品創(chuàng)造薄膜保護(hù)層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。

為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，鋁板真空鍍膜廠商，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，鋁板真空鍍膜公司，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長(zhǎng)加工產(chǎn)品的使用壽命，不僅如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為顯著的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。

實(shí)際應(yīng)用中，我們往往會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來(lái)決定選用哪種真空鍍膜工藝。磁控濺射鍍主要用于金屬產(chǎn)品，蒸發(fā)鍍主要用于塑膠產(chǎn)品，光學(xué)離子鍍主要用于璃玻產(chǎn)品。真空電鍍?yōu)榇趴貫R射鍍，鋁板真空鍍膜哪家好，以電鍍不銹鋼產(chǎn)品材質(zhì)為主，可以電鍍金色、玫瑰金色、黑色、色、藍(lán)色等顏色，質(zhì)量穩(wěn)定，品質(zhì)保障。

瑞林（parylene）采用真空氣相沉積工藝制備(CVD)的0.1-100微米薄膜涂層，厚度均勻、致密無(wú)、透明無(wú)應(yīng)力、不含助劑、不損傷工件、有優(yōu)異的電絕緣性和防護(hù)性，是當(dāng)代*有效的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。

電路板派瑞林（parylene）鍍膜加工

防潮、絕緣、防銹、耐化學(xué)腐蝕性、氣體阻隔性能*的派瑞林表面涂層，通過(guò)幾個(gè)微米的薄膜，形成一層無(wú)和可靠的保護(hù)膜。此外，通過(guò)薄膜發(fā)揮*的防潮性能，是室外設(shè)置LED照明、燈飾、移動(dòng)式顯示器等的輕量化的*選擇。

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