金屬層如鎂和氟化物沉積在被涂覆的物體上(稱為基底)。根據(jù)層的數(shù)量和厚度、材料類型和所用的涂層工藝，精密光學(xué)鍍膜廠，可以確定反射或折射的程度。與無涂層產(chǎn)品不同，精密光學(xué)鍍膜加工廠，光學(xué)涂層使產(chǎn)品能夠以不同的方式反射光線。涂層通常是通過使用由技術(shù)人員操作的機(jī)器來完成的，技術(shù)人員對(duì)機(jī)器過程進(jìn)行編程或監(jiān)督。一些機(jī)器執(zhí)行自動(dòng)化過程，北京精密光學(xué)鍍膜，不需要仔細(xì)監(jiān)督。


可以應(yīng)用于塑料制成的基底。圖19.11展示一個(gè)操作者正在光學(xué)鍍膜機(jī)前。抽真空主系統(tǒng)由兩個(gè)低溫泵組成。電子束蒸發(fā)、IAD沉積、光控、加熱器控制、抽真空控制和自動(dòng)過程控制的控制模塊都在鍍膜機(jī)的前面板上。光學(xué)涂層可以直接應(yīng)用于光學(xué)元件的表面、以調(diào)整其反射率等。除此外可以利用材料的特性與多個(gè)膜層的配合作用可以達(dá)到很多特殊效果。

與PVD相比，ALD的沉積率通常較低。但ALD制備工藝可通過大批量的產(chǎn)能來進(jìn)行彌補(bǔ)。Beneq P400A 經(jīng)過優(yōu)化，精密光學(xué)鍍膜批發(fā)廠家，可在批量生產(chǎn)中以更快的生長速度沉積高保形厚膜。

基于豐富的經(jīng)驗(yàn)和軟件，Beneq可根據(jù)您的要求針對(duì)性地設(shè)計(jì)ALD膜層結(jié)構(gòu)，以此獲得的光學(xué)性能。

硅結(jié)構(gòu)測試在硅結(jié)構(gòu)測試中沉積保形的ALD薄膜堆層


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