真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用越來越廣泛。隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)材料的綜合性能要求也不斷提高，單一材料性能已不能滿足某些特定環(huán)境下工作機(jī)械的性能要求。從半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來看，對(duì)真空鍍膜設(shè)備、技術(shù)、材料需求都在不斷增加;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應(yīng)用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。

真空電鍍?cè)O(shè)備施涂性能良好。真空電鍍?cè)O(shè)備流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ?、固化時(shí)間短。真空電鍍?cè)O(shè)備與鍍膜層要有良好的接觸性能;真空電鍍?cè)O(shè)備與底涂層要有一定的相溶性;真空電鍍?cè)O(shè)備成膜性能與施涂性能優(yōu)良;真空電鍍?cè)O(shè)備具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;真空電鍍?cè)O(shè)備防潮、抗溶劑、耐真空電鍍?cè)O(shè)備腐蝕性能好?？估匣阅軓?qiáng)。

真空電鍍?cè)O(shè)備對(duì)鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，真空電鍍?cè)O(shè)備熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，從化工具鍍膜設(shè)備，流平性能好。

鍍膜有許多優(yōu)點(diǎn)，工具鍍膜設(shè)備工廠，如設(shè)備與工藝相對(duì)比較簡單，即可沉積非常純凈的膜層，又可制備具有特定結(jié)構(gòu)和性質(zhì)的膜層等等，仍然是當(dāng)今非常重要的鍍膜技術(shù)。鍍膜系統(tǒng)一般由三個(gè)部分組成：真空室、蒸發(fā)源或蒸發(fā)加熱裝置、放置基板及給基板加熱裝置。在真空中為了蒸發(fā)待沉積的材料，需要容器來支撐或盛裝蒸發(fā)物，同時(shí)需要提供蒸發(fā)熱使蒸發(fā)物達(dá)到足夠高的溫度以產(chǎn)生所需的蒸汽壓。