真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，鏡片鍍膜設(shè)備工廠，包括真空離子蒸發(fā)鍍膜機(jī)、磁控濺鍍膜機(jī)射、MBE分子束外延鍍膜機(jī)和PLD激光濺射沉積鍍膜機(jī)等很多種。主要是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在真空鍍膜設(shè)備中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材?；c靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。真空鍍膜機(jī)表面涂層材料具有很高的耐磨性和硬度，謝崗鏡片鍍膜設(shè)備，且耐高溫。和未涂層的刀具比，涂層刀具允許采用較高的切削速度，提高了切削加工效率，也提高了在相同的切削速度下刀具的壽命。

鏡片鍍膜設(shè)備

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真空鍍膜機(jī)是現(xiàn)在產(chǎn)品在真空條件下進(jìn)行鍍膜使用的一種設(shè)備，一臺完整的真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的，每個系統(tǒng)可以完成不同的功能。其組成包括真空腔、機(jī)械泵、真空測試系統(tǒng)、油擴(kuò)散泵、抽真空系統(tǒng)、冷凝泵以及成膜控制系統(tǒng)等等。

鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。真空鍍膜機(jī)鍍膜原理一般是根據(jù)實(shí)際產(chǎn)品工藝需求定制。