薄膜沉積的傳統(tǒng)方法一直是熱蒸發(fā),或采用電阻加熱蒸發(fā)源或采用電子束蒸發(fā)源。薄膜特性主要決定于沉積原子的能量,傳統(tǒng)蒸發(fā)中原子的能量僅約0.1eV。如果蒸發(fā)沉積的原子在基底表面的遷移率低,則薄膜會含有微孔。當薄膜暴露于潮濕的空氣時,光學電鍍多少錢,這些微孔逐漸被水汽所填充。因而,折射率是蒸發(fā)材料在真空中的折射率,而不是暴露于潮濕空氣中的材料折射率。
光學鍍膜的設計是為了提高光學組件在特定入射和偏振角度(如 s 偏振,光學電鍍定制,p 偏振或隨機偏振)下的性能。如果鍍膜的入射角度或偏振角度與設計時不同,光學電鍍加工廠商,將導致性能顯著下降。足夠大的入射角和偏振偏差可能導致鍍膜功能完全喪失。光學鍍膜理論要理解光學鍍膜,就必須理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波從一種光學介質傳播到另一種介質時傳播方向的變化,它受斯涅爾折射定律決定
利用斯涅爾定律,可以找到由不同折射率的平面平行表面組成的多層薄膜鍍膜任何位置的光線角度。由于斯涅爾定律適用于每個界面,因此薄膜內(nèi)光線的內(nèi)角與薄膜順序或薄膜在堆棧中的位置無關(2)n1sinθ1=n2sinθ2=n3sinθ3=n4sinθ4n1sin?θ1=n2sin?θ2=n3sin?θ3=n4sin?θ4出射光線將與入射光線平行,虎門光學電鍍,因為 n1 = n4。由于光學元件的曲率,曲面上的光學鍍膜并不是真正的平面平行結構。不過,由于鍍膜較薄,這種近似仍然有效。
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