黑碳化硅粒度砂的生產(chǎn)工藝解析

黑碳化硅粒度砂經(jīng)過(guò)多個(gè)工藝流程煉制成不同粒度，滿足不同工業(yè)需求，嚴(yán)格的原材料選配以及嚴(yán)格的生產(chǎn)工藝是質(zhì)量的關(guān)鍵，其工藝解析知識(shí)有：

1、原料破碎。采用錘式破碎機(jī)對(duì)石油焦進(jìn)行破碎，破碎到工藝要求的粒徑；

2、配料與混料。配料與混料是按照規(guī)定配方進(jìn)行稱量和混勻的過(guò)程。本項(xiàng)目配料采用平臺(tái)，混料采用混凝土攪拌機(jī)，按照工藝要求對(duì)石油焦和石英砂進(jìn)行配料、混料作業(yè)；

3、電爐準(zhǔn)備。把上次用過(guò)的爐重新修整、整理，以再次投入使用。作業(yè)內(nèi)容包括潔理爐底料，修整電極，清理爐墻并修補(bǔ)，去裝力、1擋，黑碳化硅磨料， 檢查、排除爐的其他缺陷；

4、裝爐。按照規(guī)定的黑黑碳化硅粒度砂類別、部位、尺寸往爐內(nèi)裝填反應(yīng)料、保溫料、爐芯材料，并砌筑具有保溫和盛料作用的熔煉爐側(cè)墻。

黑碳化硅氧化的原因

       黑碳化硅材料在普通條件下（如大氣1000℃-2000℃）具有較好的性能，這是由于在高溫條件下，材料表面形成了一層非常薄的、致密的、與基體集合牢固的SiO2膜，氧在SiO2氧化膜中的擴(kuò)散系數(shù)非常小，因此材料的氧化非常緩慢。材料在這種富氧條件下的緩慢氧化稱為惰性氧化。但在某些條件下，如在足夠高的溫度下或較低的氧分壓下，SiC轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性的SiO2保護(hù)膜被環(huán)境腐蝕，黑碳化硅砂輪廠家，這將導(dǎo)致材料被快速氧化，即產(chǎn)生活性氧化。而硅材料在使用過(guò)程中經(jīng)常會(huì)遇到這種環(huán)境。到目前為止，對(duì)材料在高溫、氧化氣氛中，硅材料表面會(huì)生成致密的SiO2膜，它的反應(yīng)為：

　　SiC+3/2O2→ SiO2+CO

　　SiC+2O2 →Sio2+CO2

　　表層SiC到SiO2的轉(zhuǎn)變導(dǎo)致材料的凈重增加。這是惰性氧化的特性之一。但是研究表明，SiC的早期氧化產(chǎn)物為玻璃臺(tái)態(tài)SiO2膜。隨著氧化溫度的升高，約800~1140℃，玻璃態(tài)SiO2膜發(fā)生晶化。相變將產(chǎn)生體積變化，這使得SiO2保護(hù)膜結(jié)構(gòu)變得疏松，進(jìn)而同黑碳化硅基體集合不牢。這樣，其氧化保護(hù)作用驟減。另外，當(dāng)黑碳化硅材料循環(huán)使用時(shí)，由于SiO2在500℃以下熱膨脹系數(shù)變化較大，而基材的熱膨脹系數(shù)變化不大，這樣，保護(hù)膜與基材間熱應(yīng)力變化較大，保護(hù)膜易。對(duì)于空隙較多的制品，上饒黑碳化硅，如氮化硅結(jié)合材料，會(huì)發(fā)生晶界頸部氧化，產(chǎn)生的SiO2導(dǎo)致晶界處體積膨脹，膨脹應(yīng)力將會(huì)導(dǎo)致制品***：的惰性氧化會(huì)產(chǎn)生氣體產(chǎn)物，這將產(chǎn)泡現(xiàn)象，使SiO2膜的氧化保護(hù)作用減小。

　　黑碳化硅出現(xiàn)氧化主要是由于高溫或低氧分壓的狀況下導(dǎo)致其表層被外界侵蝕且發(fā)生反應(yīng)，所以為了保證其使用效果就需要我們?cè)谑褂脮r(shí)嚴(yán)格把控溫度和環(huán)境等外界因素，從而確保材料的優(yōu)良屬性不會(huì)被***。

黑碳化硅的密度檢測(cè)方法是什么？

黑碳化硅型號(hào)有多種，根據(jù)不同的需要可選擇適當(dāng)?shù)囊?guī)格，所選用的密度也要根據(jù)實(shí)際需求，所以密度檢測(cè)也就比較關(guān)鍵了，簡(jiǎn)單的方法有：

　　1、找一玻璃容器，放一定量的碳化硅碎塊進(jìn)去，加水，搖晃，看它的渾濁度，水越黑，說(shuō)明它的碳越高，碳化硅反而少；

　　2、把水倒掉，看碳化硅里的石英砂有多少、未燒成的生料有多少，進(jìn)而作初步判斷，還有你要看碳化硅的密實(shí)度，一般來(lái)說(shuō)密室度高的碳化硅要比松散的含量要高一些。

　　黑碳化硅硬度高，黑碳化硅粒度，用于玻璃等電器元件的生產(chǎn)中，密度越高，硬度越高。如果您有什么特殊的要求，可向廠家提出，進(jìn)行加工制作。

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