真空鍍膜加工廠MEMS真空鍍膜加工平臺(tái)——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一，主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要，從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。
磁控濺射真空鍍膜的具體方法是在真空條件下電離惰性氣體，反射濺射真空鍍膜加工廠， 氣體離子在電場(chǎng)的作用下 ， 轟擊金屬靶材使金屬原子沉積到玻璃表面上。它是七十年代末期發(fā)展起來(lái)的一種***的工藝方法，膜層由多層金屬或金屬氧化層組成， 允許任意調(diào)節(jié)能量通過(guò)率、能量反射率， 具有良好的外觀美學(xué)效果，金屬真空鍍膜加工廠， 它克服了其它生產(chǎn)方法存在的一些缺點(diǎn)， 因而目前國(guó)際上廣泛采用這一方法。磁控濺射是一種新型的高速、低溫濺射鍍膜方法， 它是在專門的真空設(shè)備中， 借助于高壓直線濺射裝置進(jìn)行的。磁控濺射鍍膜工藝的原理是: 將玻璃送入設(shè)有磁控陰極和濺射氣體的真空室內(nèi)，陰極加負(fù)電壓，在真空室內(nèi)輝光放電，產(chǎn)生等離子體。由于金屬靶材帶負(fù)電，等離子中帶正電的氣體離子被加速，并以相當(dāng)于靶極位降U的能量沖擊靶面，將金屬靶的原子轟出來(lái)，使之沉淀在玻璃表面形成金屬膜。
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安裝調(diào)試階段是真空鍍膜機(jī)檢漏工作的主體。若設(shè)備焊縫的氣密性已經(jīng)通過(guò)加工階段的檢漏得以保證，那么在設(shè)備安裝、調(diào)試過(guò)程中，檢查、保證連接部位的密封性，是檢漏工作的***。包括各個(gè)管道、部件間的法蘭連接和動(dòng)密封件等***部位。若同時(shí)對(duì)焊縫和連接部位檢漏，則檢漏的工作量和難度都加大。大型、復(fù)雜真空設(shè)備采用分段檢漏，每裝上一個(gè)部件，便對(duì)其連接部位和焊縫進(jìn)行一次檢漏，達(dá)到要求后再裝下一個(gè)部件。因?yàn)閷⑺胁考b配完后再檢漏，不僅懷疑部位太多，還可能多個(gè)漏孔同時(shí)漏氣，給總體檢漏帶來(lái)極大困難。
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同樣，靶材塊的晶體結(jié)構(gòu)、顆粒結(jié)構(gòu)、硬度、應(yīng)力以及雜質(zhì)等參數(shù)也會(huì)影響到濺射速率，而這些則可能會(huì)在產(chǎn)品上形成條狀的缺陷。這也需要在鍍膜期間加以注意。不過(guò)，這種情況只有通過(guò)更換靶材才能得到解決。
靶材損耗區(qū)自身也會(huì)造成比較低下的濺射速率。這時(shí)候，為了得到優(yōu)良的膜層，必須重新調(diào)整功率或傳動(dòng)速度。因?yàn)樗俣葘?duì)于產(chǎn)品是至關(guān)重要的，所以標(biāo)準(zhǔn)而且適當(dāng)?shù)恼{(diào)整方法是提高功率。
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