在氧化層中大部分的電荷效應(yīng)是直接或間接地同熱氧化的工藝過程有關(guān)的。在800—1250~C的溫度范圍內(nèi)，用干氧、濕氧或水汽進(jìn)行的熱氧化過程有三個持續(xù)的階段，首先是環(huán)境氣氛中的氧進(jìn)入到已生成的氧化層中，然后氧通過二氧化硅向內(nèi)部擴散，當(dāng)它到達(dá)Si02-Si界面時就同硅發(fā)生反應(yīng)，鋁壓鑄鈍化哪里有，形成新的二氧化硅。這樣不斷發(fā)生著氧的進(jìn)入—擴散—反應(yīng)過程，使靠近界面的硅不斷轉(zhuǎn)化為二氧化硅，氧化層就以一定的速率向硅片內(nèi)部生長。

鈍化原理其鈍化的機理可用薄膜理論來解釋，即認(rèn)為鈍化是由于金屬與氧化性物質(zhì)作用，作用時在金屬表面生成 一種非常薄的、致密的、覆蓋性能良好的、牢固地吸附在金屬表面上的鈍化膜。這層膜成***相存在，鋁壓鑄鈍化廠家，通常是氧化金屬的化合物。它起著把金屬與腐蝕介質(zhì)完全隔開的作用，防止金屬與腐蝕介質(zhì)接觸，從而使金屬基本停止溶解形成鈍態(tài)達(dá)到防腐蝕的作用。

如采用某種能夠溶解金屬而與氧化膜不起作用的***，小心地溶解除去膜下的金屬，就可分離出能看見的鈍化膜，鋁壓鑄鈍化，鈍化膜是怎樣形成的？當(dāng)金屬陽極溶解時，其周圍附近的溶液層成分發(fā)生了變化。一方面，溶解下來的金屬離子因擴散速度不夠快（溶解速度快）而有所積累。