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企業(yè)資質(zhì)

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所

普通會(huì)員4
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企業(yè)等級(jí):普通會(huì)員
經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)加工
所在地區(qū):廣東 廣州
聯(lián)系賣家:曾經(jīng)理
手機(jī)號(hào)碼:15018420573
公司官網(wǎng):www.micronanolab.com
企業(yè)地址:廣州市天河區(qū)長(zhǎng)興路363號(hào)
本企業(yè)已通過(guò)工商資料核驗(yàn)!
企業(yè)概況

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,其前身是2010年10月在成立的廣東半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院。2015年6月經(jīng)省政府批準(zhǔn),由原廣東省科學(xué)院、廣東省工業(yè)技術(shù)研究院(廣州有色金屬研究院)、廣東省測(cè)試分析研究所(中國(guó)廣州分析測(cè)試中心)、廣東省石油化工研究院等研究院所整合重組新廣......

氮化鋁真空鍍膜加工-海南真空鍍膜加工-半導(dǎo)體研究所

產(chǎn)品編號(hào):1000000000024888878                    更新時(shí)間:2023-05-19
價(jià)格: 來(lái)電議定
廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所

  • 主營(yíng)業(yè)務(wù):深硅刻蝕,真空鍍膜,磁控濺射,材料刻蝕,紫外光刻
  • 公司官網(wǎng):www.micronanolab.com
  • 公司地址:廣州市天河區(qū)長(zhǎng)興路363號(hào)

聯(lián)系人名片:

曾經(jīng)理 15018420573

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產(chǎn)品詳情





真空鍍膜加工MEMS真空鍍膜加工平臺(tái)——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要,從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。


真空鍍膜是一種將待鍍材料和被鍍基材放置于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,海南真空鍍膜加工,使之蒸發(fā)或升華并飛濺到被鍍基材表面凝聚成膜的表面處理工藝,氮化鋁真空鍍膜加工,如圖所示。

真空鍍膜工藝可使塑料表面具有金屬質(zhì)感,并賦予一定的導(dǎo)電性能,其基材選擇廣泛,壓點(diǎn)材料真空鍍膜加工,過(guò)程環(huán)保***,顏色相較電鍍更加豐富。此工藝可分為三種類型:蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空鍍膜原理圖

在內(nèi)外飾系統(tǒng)中,榮威標(biāo)牌嵌件是采用真空鍍膜的典型零件。通過(guò)標(biāo)牌嵌件背面鍍的銀色鋁膜與淡***PMMA基材共同形成了的金色獅子華表圖案。榮威標(biāo)牌嵌件采用的是真空鍍膜工藝中的濺射鍍膜。真空鍍膜典型零件及鍍膜機(jī)實(shí)物圖如圖所示。





歡迎來(lái)電咨詢半導(dǎo)體研究所喲~真空鍍膜加工


真空鍍膜加工MEMS真空鍍膜加工平臺(tái)——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要,從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

磁控濺射技術(shù)一般可以分為兩種,接下來(lái)我們一一的看一看。直流濺射法是其中之一,它能夠做到濺射導(dǎo)體材料,但是對(duì)于一些非導(dǎo)體或者絕緣材料,會(huì)使得表面的電荷無(wú)法達(dá)到中和狀態(tài),甚至不能電離,也就無(wú)法做到連續(xù)放點(diǎn)電甚至無(wú)法放電,所以對(duì)于一些絕緣靶材或者一些導(dǎo)電性很差的非金屬靶材,就必須使用射頻濺射法。這是二者之間一個(gè)簡(jiǎn)單的區(qū)別。

濺射鍍膜技術(shù)在真空狀態(tài)下工作的時(shí)候,荷能粒子轟擊靶表面,導(dǎo)致被轟擊的粒子在基片上發(fā)生沉積。由于被濺射原子是飛濺出來(lái)的,而且是在與具有數(shù)十電子伏特能量的正離子,所以這種原子的能量要比一般的高,而且對(duì)提高沉積時(shí)的原子的擴(kuò)散能力有很大促進(jìn)作用,能夠提高沉積***的致密程度,也使得制出的薄膜有很強(qiáng)的附著力,能夠很好地附著在基片之上。



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真空鍍膜加工MEMS真空鍍膜加工平臺(tái)——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要,透明電極真空鍍膜加工,從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。


而當(dāng)工作氣壓過(guò)大時(shí),沉積速率會(huì)減小,原因有如下兩點(diǎn):

(1)由于氣體分子平均自由程減小,濺射原子的背反射和受氣體分子散射的幾率增大,而且這一影響已經(jīng)超過(guò)了放電增強(qiáng)的影響。濺射原子經(jīng)多次碰撞后會(huì)有部分逃離沉積區(qū)域,基片對(duì)濺射原子的收集效率就會(huì)減小,從而導(dǎo)致了沉積速率的降低。

(2) 隨著Ar氣分子的增多,濺射原子與Ar氣分子的碰撞次數(shù)大量增加,這導(dǎo)致濺射原子能量在碰撞過(guò)程中大大損失,致使粒子到達(dá)基片的數(shù)量減少,沉積速率下降。

3.6結(jié)論

通過(guò)試驗(yàn),及對(duì)結(jié)果的分析可以得出如下結(jié)論:在其他參數(shù)不變的條件下,隨著工作氣壓的增大,沉積增大后減小。在某一個(gè)工作氣壓下,有一個(gè)對(duì)應(yīng)的大沉積率。

雖然以上工作氣壓與沉積率的關(guān)系規(guī)律只是在純銅靶材和陶瓷基片上得到的,但對(duì)其他不

同靶材與基片的鍍膜工藝研究也具有一定的參考價(jià)值。




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氮化鋁真空鍍膜加工-海南真空鍍膜加工-半導(dǎo)體研究所由廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所提供。廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東 廣州 ,電子、電工產(chǎn)品加工的見證者,多年來(lái),公司貫徹執(zhí)行科學(xué)管理、創(chuàng)新發(fā)展、誠(chéng)實(shí)守信的方針,滿足客戶需求。在半導(dǎo)體研究所***攜全體員工熱情歡迎各界人士垂詢洽談,共創(chuàng)半導(dǎo)體研究所更加美好的未來(lái)。

廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所電話:020-61086420傳真:020-61086422聯(lián)系人:曾經(jīng)理 15018420573

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