晶格有序度的均勻性：

這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點問題，具體見下。

主要分類有兩個大種類：

蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，派瑞倫鍍膜加工廠，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等

一、對于蒸發(fā)鍍膜：

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。

厚度均勻性主要取決于：

1、基片材料與靶材的晶格匹配程度

2、基片表面溫度

3、蒸發(fā)功率，速率

4、真空度

5、鍍膜時間，派瑞倫鍍膜，厚度大小。

組分均勻性：

蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。

晶向均勻性：

1、晶格匹配度

2、基片溫度

3、蒸發(fā)速率

鍍膜公司從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa，真空鍍膜對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。 鍍層厚度0.04-0.1um，太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。

從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、東莞電子鍍膜防輻射、導(dǎo)電、導(dǎo) 磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達(dá)到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益的作用。

隨著信息產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展，磁性元件越來越趨向于小型化，3-5㎜的軟磁芯，2-3㎜的稀土永磁材料，派瑞倫鍍膜工藝，甚至尺寸更小的磁材都不斷被應(yīng)用，對磁材的防護(hù)提出了新的要求。小型軟磁芯作饒線器件時，經(jīng)聚對二涂敷后能耐1500-2000V甚至更高的電壓，由于聚對二摩擦系數(shù)低，饒成操會更滑溜，不傷線，更便于操作，稀土釹鐵硼永磁材料是一種強(qiáng)磁材料，但這種材料在空氣中很不穩(wěn)定，尺寸較大的通常用電鍍或環(huán)氧電泳漆作防護(hù)涂層，派瑞倫鍍膜價格，尺寸較小的磁材，特別是環(huán)型和筒形的磁材，已不能用上述傳統(tǒng)方法實現(xiàn)可靠防護(hù)，滿足使用要求。Parylene的制備工藝和優(yōu)異性能相結(jié)合，使它能對小型超小型磁材進(jìn)行無薄弱點全涂敷的磁材可浸鹽酸10天以上不腐蝕，目前國際上小型超小型磁材，幾乎都采用Parylene作絕緣和防護(hù)涂層。

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