MEMS微納加工廠——廣東省科學院半導體研究所是廣東省科學院下屬骨干研究院所之一，主要聚焦半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，江蘇微納加工外協(xié)，兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟社會發(fā)展的實際需要，從事電子信息、半導體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，電子束***微納加工外協(xié)，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

在微納加工中，刻蝕工藝有很多種，其中干法刻蝕中掩膜版是常見的工藝之一。掩膜版也分軟掩膜和硬掩膜。兩者主要在獲得方式、成本、耐溫性和是否變形上有著一定的差異。

微納加工中Chemical Vapor Deition是生成無機薄膜的主要材料，形成硬掩膜。其主要成分通常有TiN、SiN、SiO2等。在實際操作中，硬掩膜常用在多重光刻中。其主要步T就是講多重刻膠圖像轉(zhuǎn)移到硬掩模上，然后通過硬掩模將終圖形刻蝕轉(zhuǎn)移到襯底上。那么，硬掩膜主要在哪些工藝中得到應(yīng)用呢?

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MEMS微納加工廠——廣東省科學院半導體研究所是廣東省科學院下屬骨干研究院所之一，主要聚焦半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟社會發(fā)展的實際需要，從事電子信息、半導體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

新一代微納制造系統(tǒng)應(yīng)滿足的要求：能生產(chǎn)多種多樣高度復雜的微納產(chǎn)品。

在微納加工過程中，薄膜的形成方法主要為物理沉積、化學沉積和混合方法沉積。蒸發(fā)沉積（熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)）和濺射沉積是典型的物理方法，主要用于沉積金屬單質(zhì)薄膜、合金薄膜、化合物等。熱蒸發(fā)是在高真空下，利用電阻加熱至材料的熔化溫度，使其蒸發(fā)至基底表面形成薄膜，而電子束蒸發(fā)為使用電子束加熱；磁控濺射在高真空，在電場的作用下，Ar氣被電離為Ar離子高能量轟擊靶材，使靶材發(fā)生濺射并沉積于基底；磁控濺射方法沉積的薄膜純度高、致密性好，鍵合微納加工外協(xié)，熱蒸發(fā)主要用于沉積低熔點金屬薄膜或者厚膜；化學氣相沉積（CVD）是典型的化學方法而等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）是物理與化學相結(jié)合的混合方法，CVD和PECVD主要用于生長氮化硅、氧化硅等介質(zhì)膜。

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MEMS微納加工廠——廣東省科學院半導體研究所是廣東省科學院下屬骨干研究院所之一，主要聚焦半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟社會發(fā)展的實際需要，從事電子信息、半導體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

微納制造包括微制造和納制造兩個方面。

平臺目前已配備各類微納加工和表征測試設(shè)備70余臺套，正在運行一條相對完整的微納米加工工藝線，涵蓋了圖形發(fā)生、薄膜制備、材料刻蝕、鍵合封裝、表征測試等常見的工藝段，可以進行常見微納米結(jié)構(gòu)和器件的加工，極限線寬達到10納米，材料種類包括硅基、碳基、i金屬、聚合物、化合物半導體、二維納米等多種類型材料，可以有力支撐多學科領(lǐng)域的微納米器件加工以及微納米結(jié)構(gòu)的表征測試需求，設(shè)備總值超過1億元，整體設(shè)備工藝能力達到國內(nèi)外***微納加工的水平。

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江蘇微納加工外協(xié)-半導體微納-鍵合微納加工外協(xié)由廣東省科學院半導體研究所提供。廣東省科學院半導體研究所為客戶提供“深硅刻蝕,真空鍍膜,磁控濺射,材料刻蝕,紫外光刻”等業(yè)務(wù)，公司擁有“半導體”等品牌，專注于電子、電工產(chǎn)品加工等行業(yè)。，在廣州市天河區(qū)長興路363號的名聲不錯。歡迎來電垂詢，聯(lián)系人：曾經(jīng)理。