叉指電極真空鍍膜MEMS真空鍍膜加工平臺(tái)——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一,主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究,兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究,立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要,從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究,以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開(kāi)發(fā)。
·特征尺寸的減小和電路密度的提高產(chǎn)生的結(jié)果是:信號(hào)傳輸距離的縮短和電路速度的提高,芯片或電路功耗更小。
1.5半導(dǎo)體工業(yè)的構(gòu)成
·半導(dǎo)體工業(yè)包括材料供應(yīng)、電路設(shè)計(jì)、芯片制造和半導(dǎo)體工業(yè)設(shè)備及***供應(yīng)五大塊。
·目前有三類企業(yè):一種是集設(shè)計(jì)、制造、封裝和市場(chǎng)銷售為-一體的公司;另- -類是做設(shè)計(jì)和銷售的公司,他們是從芯片生產(chǎn)廠家購(gòu)買芯片;還有一種是芯片生產(chǎn)工廠,他們可以為顧客生產(chǎn)多種類型的芯片。
器件的制造步驟
·半導(dǎo)體器件制造分4個(gè)不同階段:
1.材料準(zhǔn)備
2.晶體生長(zhǎng)與晶圓準(zhǔn)備
3.芯片制造
4.封裝
材料準(zhǔn)備→晶體生長(zhǎng)與晶圓準(zhǔn)備→晶圓制造→封裝
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氣體環(huán)境
真空系統(tǒng)和工藝氣體系統(tǒng)共同控制著氣體環(huán)境。
首先,真空泵將室體抽到一個(gè)高真空(大約為10-torr)。然后,由工藝氣體系統(tǒng)(包括壓強(qiáng)和流量控制調(diào)節(jié)器)充入工藝氣體,將氣體壓強(qiáng)降低到大約2X10-3torr。為了確保得到適當(dāng)質(zhì)量的同一膜層,工藝氣體必須使用純度為99.995%的高純氣體。在反應(yīng)濺射中,在反應(yīng)氣體中混合少量的惰性氣體(如)可以提高濺射速率。
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PVD真空鍍膜機(jī)和CVD鍍膜機(jī)區(qū)別
薄膜沉積技術(shù)根據(jù)成膜機(jī)理的不同,主要分為物理、化學(xué)、外延三大工藝。物***相沉積鍍膜設(shè)備,簡(jiǎn)稱PVD真空鍍膜機(jī)?;瘜W(xué)氣相沉積鍍膜機(jī),簡(jiǎn)稱為CVD鍍膜機(jī)。
薄膜沉積技術(shù)是半導(dǎo)體、光伏等行業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵工藝。薄膜沉積技術(shù)是指將在真空下用各種方法獲得的氣相原子或分子在基體材料表面沉積以獲得離層被膜的技術(shù)。它既適合于制備超硬、耐蝕、耐熱、化的機(jī)械薄膜,又適合于制備磁記錄,信息存儲(chǔ)、光敏、熱敏、超導(dǎo)、光電轉(zhuǎn)換等功能薄膜;此外,叉指電極真空鍍膜外協(xié),還可用于制備裝飾性鍍膜。近20年來(lái),薄膜沉積技術(shù)得到了飛速發(fā)展,現(xiàn)已被廣泛應(yīng)用于機(jī)械、電子、裝飾等領(lǐng)域。
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