微納光刻加工廠——廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所是廣東省科學(xué)院下屬骨干研究院所之一，主要聚焦半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的實(shí)際需要，從事電子信息、半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

敏感度決定了光刻膠上產(chǎn)生一個(gè)良好的圖形所需一定波長(zhǎng)光的能量值?？刮g性決定了光刻膠作為覆蓋物在后續(xù)刻蝕或離子注入工藝中，不被刻蝕或抗擊離子轟擊，從而保護(hù)被覆蓋的襯底。光刻膠依據(jù)不同的產(chǎn)品標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行分類：按照化學(xué)反應(yīng)和顯影的原理，光刻膠可分為正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。如果顯影時(shí)未***部分溶解于顯影液，半導(dǎo)體光刻技術(shù)服務(wù)，形成的圖形與掩膜版相反，稱為負(fù)性光刻膠；如果顯影時(shí)***部分溶解于顯影液，形成的圖形與掩膜版相同，稱為正性光刻膠。根據(jù)感光樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)來分類，光刻膠可以分為光聚合型、光分解型和光交聯(lián)型三種類別。

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影響光刻膠均勻性的參數(shù)：旋轉(zhuǎn)加速度，加速越快越均勻；

光刻是將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移到涂有光致抗蝕劑（或稱光刻膠）的襯底上，通過一系列生產(chǎn)步驟將硅片表面薄膜的特定部分除去的一種圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)。光刻技術(shù)是借用照相技術(shù)、平板印刷技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的半導(dǎo)體關(guān)鍵工藝技術(shù)。

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光刻膠是光刻工藝的材料：光刻膠又稱光致抗蝕劑，它是指由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分構(gòu)成的對(duì)光敏感的混合液體。在紫外光、電子束、離子束、X 射線等輻射的作用下，其感光樹脂的溶解度及親和性由于光固化反應(yīng)而發(fā)生變化，半導(dǎo)體光刻技術(shù)價(jià)格，經(jīng)適當(dāng)溶劑處理，溶去可溶部分可獲得所需圖像。生產(chǎn)光刻膠的原料包括光引發(fā)劑（包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑）、光刻膠樹脂、單體及其他助劑等。光刻膠作為光刻***的材料，其分辨率是光刻膠實(shí)現(xiàn)器件的關(guān)鍵尺寸（如器件線寬）的衡量值，光刻膠分辨率越高形成的圖形關(guān)鍵尺寸越小。對(duì)比度是指光刻膠從***區(qū)到非***區(qū)過渡的陡度，對(duì)比度越高，形成圖形的側(cè)壁越陡峭，圖形完成度更好。

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