微納光刻加工廠——廣東省科學院半導體研究所是廣東省科學院下屬骨干研究院所之一，主要聚焦半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，立足于廣東省經(jīng)濟社會發(fā)展的實際需要，從事電子信息、半導體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

光刻機又被稱為：掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等。

每顆芯片誕生之初，都要經(jīng)過光刻機的雕刻，精度要達到頭發(fā)絲的千分之一，如今，全世界能夠生產(chǎn)光刻機的國家只有四個，中國成為了其中的一員，實現(xiàn)了從無到有的突破。光刻機又被稱為：掩模對準曝光機、曝光系統(tǒng)、光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩模對準光刻，所以它被稱為掩模對準系統(tǒng)。它指的是通過將硅晶片表面上的膠整平，然后將掩模上的圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠，將器件或電路結(jié)構(gòu)暫時“復(fù)i制”到硅晶片上的過程。它不是簡單的激光器，但它的曝光系統(tǒng)基本上使用的是復(fù)雜的紫外光源。光刻機是芯片制造的中心設(shè)備之一，根據(jù)用途可分為幾類：光刻機生產(chǎn)芯片；有光刻機包裝；還有一款投影光刻機用在LED制造領(lǐng)域。

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微納光刻加工廠——廣東省科學院半導體研究所是廣東省科學院下屬骨干研究院所之一，主要聚焦半導體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的應(yīng)用技術(shù)研究，兼顧重大技術(shù)應(yīng)用的基礎(chǔ)研究，半導體光刻定制廠商，立足于廣東省經(jīng)濟社會發(fā)展的實際需要，從事電子信息、半導體領(lǐng)域應(yīng)用基礎(chǔ)性、關(guān)鍵共性技術(shù)研究，以及行業(yè)應(yīng)用技術(shù)開發(fā)。

掩模版：一塊在內(nèi)部刻著線路設(shè)計圖的玻璃板，貴的要數(shù)十萬美元。

掩膜臺：承載掩模版運動的設(shè)備，運動控制精度是nm級的。

物鏡：物鏡由20多塊鏡片組成，主要作用是把掩膜版上的電路圖按比例縮小，再被激光映射的硅片上，并且物鏡還要補償各種光學誤差。技術(shù)難度就在于物鏡的設(shè)計難度大，半導體光刻定制定制，精度的要求高。

硅片：用硅晶制成的圓片。硅片有多種尺寸，尺寸越大，產(chǎn)率越高。題外話，由于硅片是圓的，所以需要在硅片上剪一個缺口來確認硅片的坐標系，根據(jù)缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch。

內(nèi)部封閉框架、減振器：將工作臺與外部環(huán)境隔離，保持水平，減少外界振動干擾，并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。

光刻機跟照相機差不多，它的底片，是涂滿光敏膠的硅片。電路圖案經(jīng)光刻機，半導體光刻定制技術(shù)，縮微投射到底片，蝕刻掉一部分膠，露出硅面做化學處理。制造芯片，要重復(fù)幾十遍這個過程。

位于光刻機中心的鏡頭，由20多塊鍋底大的鏡片串聯(lián)組成。鏡片得高純度透光材料+高質(zhì)量拋光。SMEE光刻機使用的鏡片，山西半導體光刻定制，得數(shù)萬美元一塊。

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光刻可能會出現(xiàn)顯影不干凈的異常，主要原因可能是顯影時間不足、顯影溶液使用周期過長，溶液溶解膠量較多、曝光時間不足。

光刻是平面型晶體管和集成電路生產(chǎn)中的一個主要工藝。是對半導體晶片表面的掩蔽物(如二氧化硅)進行開孔，以便進行雜質(zhì)的定域擴散的一種加工技術(shù)。一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、檢測等工序。硅片清洗烘干方法：濕法清洗+去離子水沖洗+脫水烘焙（熱板150～250C，1～2分鐘，氮氣保護）目的：

a、除去表面的污染物（顆粒、有機物、工藝殘余、可動離子）；

b、除去水蒸氣，使基底表面由親水性變?yōu)樵魉?，增強表面的黏附性（對光刻膠或者是HMDS-〉六甲i基二硅胺烷）。

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